中古 MATRIX System One 103 #9201876 を販売中

ID: 9201876
ウェーハサイズ: 6"
Stripper, 6" Included ranging: 50mm up to 150mm The system optimizes vital device parameters: Enhanced gate oxide integrity Reduced threshold and capacitance voltage shifts Reduced contact resistance / Oxidation Photoresist Stripping: High dose implant Post-polysilicon etch Post-metal etch Post-oxide etch Controlled resist removal: Post-develop descum (pre-etch) Dry / wet process capability Uniformity capability (<5% 1σ) GaAs, InP wafer strip and descum Thin film head resist cleaning Opto-electronic devices cleaning MEMS Single wafer multi-Step Processing: Precisely controlled & repeatable stripping of each wafer (3) programmable steps + overstrip Capable of long process times for exceptional control High throughput: 35 WPH on 150mm substrate Aluminum Wafer Chuck: Fast Precise Uniform removal of resist Low Particles: 0.1 particles (>0.3μm) added per cm2 Proven System Performance: 700 System ones in use worldwide 95% uptime Proven Reactor Design: Closed-loop temperature control Stable range for strip: 150°C – 250ºC (+/-5°C) For descum: 70°C – 150ºC .
MATRIX Equipment One 103は、半導体デバイスの製造に効率的で正確な品質管理プロセスを提供するために設計された高度なエッチングおよびアッシングシステムです。ユニットワン103はプラズマとウェットエッチングを兼ね備えた平面機で、シリコンウェハー、金属、ガラス、および多くの非金属および有機材料を含むさまざまな種類の基板材料を処理することができます。MATRIX Tool One 103は、最大チャンバーサイズが836mm x 788mmで、再現性と均一性に優れ、最大20ミクロン/秒の安定したエッチング速度を提供するように設計されています。Asset One 103にはいくつかの機能と機能があり、複雑なエッチングおよびアッシングアプリケーションに最適です。このモデルは、直感的なタッチスクリーンのユーザーインターフェイスを備えた高度に自動化されており、ユーザーは簡単にパラメータを入力し、最も効率的な操作のために機器を設定することができます。また、タブレットベースのコントローラ、プログラマブルロジックコントローラ(PLC)、ガスマニホールド、上流および下流プロセス監視ユニットなど、さまざまな制御コンポーネントを備えています。これらのすべてのコンポーネントが連携して、プロセスパラメータをカスタマイズして目的のエッチングとアッシングの結果を得ることができます。MATRIX Machine One 103は、気体化学や液体化学などの幅広いプロセス化学製品にも対応しています。このツールは、圧力、温度、ガスの流れ、電圧、および基板コマンドなどの反応パラメータを制御および監視する効果的な手段を提供します。このアセットには、製造スループットを向上させるための自動ウェハ認識および基板ローディングサブモデルも含まれています。装置One 103には、危険なガスを最小限に抑える窒素パージ機能、粉塵粒子がチャンバーに侵入するのを防ぐインラインフィルターシステムなど、さまざまな高度な安全機能が組み込まれています。また、PEAE (Programmable Environmentally Assisted Etching)ユニットを備えており、手動で調整する必要がなく、最適なエッチングおよびアッシング条件を実現するように設計されています。また、高度なモニタリングマシンを搭載しており、温度、圧力、フローなどのプロセスパラメータに関するリアルタイム情報を提供し、工具の性能を詳細に把握できます。全体として、MATRIX Asset One 103は、高効率で精密なエッチングとアッシングプロセスを優れた品質管理で提供するように設計されています。このモデルは、高度な機能の広い範囲を備えており、特定のアプリケーションにカスタマイズすることができ、優れたプロセスの再現性と制御を提供します。最新の半導体エッチングおよびアッシング要件に最適な選択肢であり、ユーザーに最高品質の製品を迅速かつ効率的に生産する能力を提供します。
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