中古 MATRIX 303 #293758395 を販売中

MATRIX 303は、複数のサンプルの高速蒸気エッチングを提供するように設計されたエッチャー/アッシャーで、ユーザーはスループットを迅速に向上させることができます。直感的な設計により、303はエッチング時間、温度、ガスの流れを迅速に調整することができ、さまざまなエッチング技術の正確な制御と処理を可能にします。MATRIX 303は、2段エッチングチャンバー、制御/インタフェース、周辺制御/インタフェースで構成されています。2段エッチングチャンバーには3つの原子炉があります。サンプルをエッチングするための2つ、および第3サンプルの等方性エッチングのための1つ。これにより、最大3つのサンプルを同時に処理できます。このチャンバーは、ユーザーの好みに応じて、バッチエッチング処理または連続エッチング処理のいずれかを提供することもできます。このチャンバーには、効率的で均一なエッチングを保証するためにサンプルを加熱するために使用されるRF RF誘導コイルも装備されています。303の制御/インターフェイスは4つの主要な区域に分けられます。温度/圧力、ガスの流れ、ソース、出力ライブラリです。温度/圧力ライブラリでは、ユーザーはエッチングチャンバーの温度、ガス流量のソース圧力、および真空レベルを調整することができます。Gas Flowライブラリは、エッチングプロセス自体に関連するさまざまなパラメータとともに、ガス流量を調整する機能をユーザーに提供します。ソースライブラリを使用すると、プロセッサを目的のソース電圧と電源にプログラムできます。最後に、Outputライブラリを使用すると、エッチングプロセスとエッチングプロセスの出力をグラフィカルディスプレイに監視できます。ペリフェラル制御/インターフェースは、エッチングプロセスのより高い精度と制御を可能にするいくつかのコンポーネントで構成されています。これらのコンポーネントには、圧力センサ、マスフローコントローラ、石英リアクタ、および温度コントローラが含まれます。圧力センサは、エッチング処理中にチャンバー内の圧力を測定および制御するために使用されます。マスフローコントローラは、特定のエッチングプロセスの要件に応じて、エッチングガスの流量を調整するために使用されます。クォーツリアクターは、エッチング工程でサンプルを均一に加熱するために重要です。最後に、温度コントローラは、チャンバー内の正確な温度を維持するために使用されます。これらのコントローラを使用すると、システムの温度を簡単に調整して目的の結果を得ることができます。全体として、MATRIX 303は強力で信頼性の高いエッチャー/アッシャーであり、さまざまなエッチング技術の正確な制御と処理をユーザーに提供します。その直観的な設計は容易な使用法を可能にします；そして効率は速いエッチングプロセスを可能にします。内蔵の周辺制御/インタフェースにより、303は毎回正確な結果を提供することができます。エッチングのニーズに適したエッチャー/アッシャーをお探しの方に最適です。