中古 MARCH PX-250 #9155556 を販売中

ID: 9155556
Plasma etcher Controlled environmental vacuum chamber Used for PR descum and oxygen plasma treatment Power supply: 115/200 - 230 V, Single Phase, 60/50 Hz.
MARCH PX-250は実験室のサンプルおよび産業部品に精密なエッチングおよびashing機能を提供するように設計されている高性能エッチャー/asherです。基板と膜ベースのサンプルの両方を処理することができ、単一のユニットで最大3つの独立したエッチング/灰の機能を提供します。MARCH PX 250は、ガラス、シリコン、III-V化合物、軟酸化物材料、ポリマー、半導体などの幅広い材料に適しています。PX-250には、別個の電源を備えた2つのエッチング/アッシュチャンバーがあります。各チャンバーには、最大20ワットの電力を可能にするRFソースが装備されており、最大200ワットの電力を可能にするICPソースがあります。ICP源はまた例外的な制御および精密を提供し、エッチング/灰プロセスの精密なエッチング次元そして一貫性を作り出すためにRFおよびDC力を支えることができます。PX 250エッチング/アッシングチャンバートップには、エッチングおよびアッシングプロセスをサポートするように特別に設計された2つの独立した石英タンクがあります。両タンクには独立した排気ポートが装備されており、幅広い材料やプロトコルを処理することができます。MARCH PX-250は、信頼性と再現性の高いプロセス結果を保証するためのさまざまな高度な機能を提供します。このシステムには、圧力コントローラと精密温度コントローラが含まれており、エッチングチャンバーと灰チャンバーの両方の温度レベルを監視および維持します。MARCH PX 250はまた、圧力、時間、および温度パラメータのプログラミングと制御を可能にするフィールド放射ディスプレイを備えています。このユニットには、ヘリウム、酸素、または窒素の供給源に簡単に接続できるガス供給接続が含まれており、プロセス全体の柔軟性と制御を可能にします。PX-250は使いやすさのために設計されており、特定のエッチング/灰の要件を満たすように迅速に設定できます。このマシンは、タイムエッチング、ステップエッチング、バルクエッチングなど、幅広いエッチングプロトコルとアッシュプロトコルをサポートしています。さらに、PX 250エッチング/アッシングツールには、簡単なソフトウェアアップデート用のUSBポートと、プロセスパラメータを迅速かつ正確に検証するためのMET/CALキャリブレーションパッケージが含まれています。全体的に、MARCH PX-250は、単一のユニットで精度と柔軟性の両方を提供する高度なエッチャー/アッシャーです。強力な機能とシンプルなデザインにより、精密エッチングとアッシングを必要とする幅広い科学および産業用途に最適です。
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