中古 MARCH AP 1000 #9130033 を販売中
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タップしてズーム
販売された
ID: 9130033
ヴィンテージ: 2006
Plasma cleaning system
ENI ACG-6B-07 Power supply, 1.6 kVA, 600 W, 13.56 MHz
EDWARDS iQDP Dry vacuum pump
(2) PORTER Mass flow controllers
Power requirements: 208-230 V, 3-Phase, 23 A, 50/60 Hz
2006 vintage.
MARCH AP 1000は、実験室、マイクロエレクトロニクスおよび生産分野での使用を目的に設計されたベンチトップバッチエッチャー/アッシャーです。このエッチャーは、強力なイオン支援鉱床を使用して、さまざまな材料で非常に均一でクリーンな表面を実現します。金属、セラミックス、半導体のエッチングが可能で、プロセスの均一性と再現性に優れています。MARCH AP1000は、エッチングパラメータに応じて、1層で1〜350 μ mの材料を0。1〜10 μ m/minのレートでエッチングすることができます。エッチャーは2つの別個の電源を使用して、反応性イオンと反応性ガスの制御と正確な組み合わせを行います。イオンソースは、必要なエッチング選択性を提供し、ストレスの少ないエッチング処理を実現し、エッチング後のダメージを排除します。エッチャーには、正確なエッチングのための正確なガス制御とエッチング工程の正確な制御を可能にするガス供給システムもあります。AP-1000は、優れたプロセスと製品の再現性、エンドポイント認識、± 5%精密ガス圧力制御、およびエッチングレートおよびその他のエッチングパラメータを示すデジタルディスプレイを提供するためのデジタル制御を備えています。また、デジタル回路を使用すると、200°Cまでのエッチング温度を制御および設定でき、温度制御されたエッチングプロセスを正確に制御できます。この汎用性の高いエッチャーは、単層または多層構造をエッチングし、横方向と縦方向の両方にエッチングすることができます。最大193mm x 193mmのエッチング面積で、小さな部品や大きなパネルのエッチングに使用できます。また、真空システムを搭載しており、幅広い用途に対応し、深部エッチングも可能です。AP 1000は、産業研究所やSMT(表面実装技術)アセンブリからハイテク生産およびアセンブリまで、幅広い用途向けに設計された汎用性の高いエッチャー/アッシャーです。精密で再現性のあるプロセスと使いやすいデジタル制御を組み合わせることで、精密エッチングを必要とするアプリケーションに最適です。
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