中古 LFE 501 #83003 を販売中
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ID: 83003
Plasma barrel etcher
Quartz barrel: 10" diameter x 20" deep
(3) Gas inputs
ENI RF Generator
Fomblin prepped direct drive vacuum pump included
Fomblin oil not included.
LFE 501は、最も正確で詳細なエッチングとアッシングプロセスを実行できる超精密エッチャー/アッシャーです。半導体、生物学、ナノテクノロジーの分野で要求の厳しいアプリケーションに最適なマシンです。501は、最低20 µm分解能の表面に微細で複雑なパターンを生成することができる高仕様の光学システムで構築されています。超滑らかなモーションコントロールにより、長いプロセスでも最高の精度を保証します。内蔵のガスチャンバーはプロセス汚染を低減し、内蔵のスクラバーは大気汚染を低減します。横速度制御システムにより、LFE 501は常に高速かつ正確な動きを維持し、完璧な結果を実現します。チャンバー設計により、薄膜やMEMSなどの薄膜材料の加工を可能にします。エッチングとアッシングのプロセスは、パターニングやアッシングなどのマルチステップアプリケーション用に1つのユニットで組み合わせることができます。501は、さまざまな物体に対応できるように調整できる3次元の振動フィード機構を備えており、さまざまな材料を処理することができます。高精度リニアモータにより、正確な位置決めと制御動作が可能です。プロセッサユニットは、LFE 501用に特別に設計された組み込みソフトウェアを備えた高速マイクロプロセッサを備えており、ユーザー定義のエッチングおよびアッシングプロトコルを可能にします。このシステムにはタッチスクリーンディスプレイも含まれており、デバイスとの便利な相互作用を可能にします。501はパワフルで汎用性の高いエッチャー/アッシャーで、印象的なパフォーマンスを発揮します。コンパクトな設計と柔軟なプログラミングにより、高精度と最高速度を必要とするアプリケーションに最適です。これは、産業や研究のさまざまなアプリケーションで使用することができ、真の多目的ツールになります。
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