中古 LAM RESEARCH Vector Extreme #9315263 を販売中

LAM RESEARCH Vector Extremeはハイエンドエッチャー/アッシャーです。シリコンウェーハ、化合物半導体材料、光学媒体などの先進基板に高密度特性を発揮します。先進的な誘導結合プラズマ（ICP）源と最先端の設計により、高いスループットと優れたエッチング均一性を実現し、最高水準のプロセス再現性と精度を実現します。酸素（O2）、塩素（Cl2）、三塩化ホウ素（BC1）、六フッ化硫黄（SF6）、臭化水素（HBr）など幅広いプロセスガスを搭載しています。Vector Extremeを使用したガス供給装置の精度により、最適なガス組成を正確に制御し、最高のエッチング品質を実現します。LAM RESEARCH Vector Extremeは、より高い基板に対応するためのロードロックアップグレード、エッチング時間延長のための電子サイクロトロン共鳴（ECR）アップグレード、リアルタイムのエンドポイント検出のための高度な光学エンドポイント検出（OPD）システムアップグレードなどのプロセスモジュールを容易にアップグレードすることができます。Vector Extremeは、デガとクリーンツールを統合した高度な基板洗浄と前処理を可能にし、エッチプロセスパラメータを高精度に制御してプロセス結果を最適化します。LAM RESEARCH Vector Extremeには、プラズマ中の入ってくる電子を分離し、プラズマ内の反応性ラジカルから粒子を濾過することで荷電粒子の汚染を最小限に抑える空間フィルタユニットが装備されています。その高度なガスシャワーヘッドマシンは、プラズマシートが基板表面に均等に分布することを保証し、基板上のエチャントの均一な露出をもたらします。ベクトルエクストリームは、300mm、 200mmなど様々なサイズのウェーハに対応しています。LAM RESEARCH Vector Extremeはまた、モニター、ストア、アクセス、トラックエッチングのレシピに高性能なコンピュータとグラフィカルユーザーインターフェイスを誇っています。温度、時間、RF電力、プラズマ密度などのデータを監視して収集し、エッチングプロセスを最適化し、潜在的な異常を回避します。Vector Extremeは、非常に浅いエッチングまたは深いエッチング、および高アスペクト比のアプリケーションに最適な強力なエッチャーです。それは生産、R&Dおよび高度の研究の適用のために完全です。