中古 LAM RESEARCH TCP 9600 SE #9177741 を販売中
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販売された
ID: 9177741
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2000
Metal etcher system, 8"
Software version: Version E1.5-released
Software envision: 1.5 With light pen
Process METAL ETCH
Platform type: Rainbow stand-alone TCP 9600SE
Wafer shape: SNNF
Main chamber: TCP 9600SE
Enterance loadlock: Standard entrance loadlock chamber
Exit loadlock: DSQ Chamber with 8″ paddle
APM Chamber: (2) APM DI Nozzles, N2 splayer
Load station: Belt type shuttle
Indexers: 38A Hine indexers
Wafer alinger: Universal
Upper chamber body: TCP 9600se
Gap: 6CM Upper chamber fixed gap
Electrostatic chuck type: 8″ Bi-polar ESC
Turbo pump: ALCATEL 1300M with Controller
Pressure manometer: Millipore 100mT
Pressure controller:
VAT Gate valve
PM7 Pressure controller
End point: Detector heated port
With dual channels (261.8nm/ 703nm)
Matchers:
Auto tuner
T Matcher for upper
(8) Turn RF coil matcher for Bias
Generators on board: AE-1250 For upper and bias chamber
Helium back side cooling 50sccm UPC (Unit 8130)
ADIO Boards
Main board
ESC Power supply:
(16) Channel heater controllers
Chamber: Auto tune DSQ strip module
Funnel: 8″ Quartz funnel
Paddle: 8″ Heated Paddle
Hardware configuration:
Pressure controller: AC2 Pressure controller
Pressure manometer: MKS 10TORR
WVDS: Auto fill WVDS controller
WVDS Temperature controller: Auto temp controller
Cooling fan hinged DSQ stripper
With high flow cooling fan
Vapor controller: TYLAN 500sccm H2O Controller
RF Tuner:
(8) Tunes
RF Coil matcher (DIP-PCB RF Tuner)
RF Generator on board: AE-1250
Heater controller: 853-015771-001
Spinner: 853-015759-102
DI Water nozzles:
Hot
Cold high water flow nozzles
Line 1: Gas CL2
Line 2: Gas BCL3
Line 3: Gas Ar
MFC Size: 200sccm (Unit 1660)
Line 4: Gas CF4
Line 5: Gas N2
Line 6: Gas O2
Line 7: Gas CF4
Line 8: Gas H20
EMCP*01 Part list:
(1) Transporter Exit loadlock: DSQ Chamber with 8″ Paddle
(1) Transporter APM Chamber: (2) APM DI nozzles, N2 splayer
(1) Transporter Wafer alinger universal
(1) Main chamber Electrostatic chuck type: 8″ Bi-polar ESC
(1) Main chamber Pressure manometer: Millipore 100mT
(1) Main chamber End point detector: Heated port with dual channels (261.8nm/ 703nm)
(1) Main chamber Matchers: Auto tuner/ T Matcher for upper, (8) Turn RF coil matcher for Bias
(2) Main chamber Generators on board: AE-1250 For upper and bias chamber
(1) Main chamber Helium back side: Cooling 50sccm UPC (Unit 8130)
(8) Main chamber ADIO Boards
(1) Main chamber Main board
(1) Main chamber ESC Power supply
(2) Main chamber (16) Channel heater controllers
(1) PLL Chamber Paddle: 8″ Heated paddle
(1) PLL Chamber WVDS Auto fill WVDS controller
(1) PLL Chamber Vapor controller: TYLAN 500sccm H2O Controller
(1) PLL Chamber RF Generator on board: AE-1250
(1) PLL Chamber Heater controller: 853-015771-001
(1) PLL Chamber Spinner 853-015759-102
Currently warehoused
2000 vintage.
LAM RESEARCH TCP 9600 SEは、半導体製造プロセスで使用するために設計されたエッチャーまたはアッシャーです。このエッチャーは、化学的、物理的、研磨エッチング処理用に特別に設計されています。プログラマブルプロセスチャンバー、液体配送装置、および信頼性の高い耐久性と堅牢な機械システムを備えた完全自動化されたウェットエッチツールです。250mm x 250mmの加工チャンバーを備えており、誘電体と金属基板の両方を処理できます。LAM RESEARCH TCP 9600SEには、優れたエッチング選択性と均一なエッチング結果を提供するユニークなジェットシャワーデリバリーユニットが装備されています。また、統合された密閉されたプロセスチャンバーを備えており、ウェーハやカバースリップの迅速かつ効率的な濡れを可能にします。プロセスチャンバーは、優れたエッチング結果を得るために、制御された圧力、温度、湿度で維持されます。さらに、TCP 9600 SEは高度な制御機で設計されており、プロセス全体でエッチングパラメータを正確に制御できます。このツールは、プロセスパラメータの20以上の異なるポイントからデータを収集するようにプログラムできます。このデータを使用して、エッチングパラメータを注意深く監視し、エッチング結果を最適化することができます。さらに、TCP 9600SEは、さまざまな安全機能も提供しています。統合されたチャンバー圧力および温度センサーは、チャンバの乾燥排気資産とともに、人員の安全性と製品の完全性を確保するのに役立ちます。LAM RESEARCH TCP 9600 SEは、プロセスチャンバーガードや最大流量感度インターロックなど、数多くの安全インターロックも備えています。LAM RESEARCH TCP 9600SEは、KOH、 TMAH、テトラエチルアンモニウム水酸化（TEAOH）、フッ化水素酸などのエッチング化学物質の大部分と互換性があります。Si、 GaAs、アルミナなどの多種多様な基板にも使用できます。TCP 9600 SEは、半導体製造プロセスでの使用を想定しており、優れたエッチング選択性、均一性、安全性を提供します。幅広い基板材料やエッチング用化学品向けに設計されており、エッチング結果を最適化することができます。
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