中古 LAM RESEARCH TCP 9600 SE #9172338 を販売中
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販売された
ID: 9172338
ヴィンテージ: 1994
Etcher
With rainbow endpoint detection
Water cooled platen
Standard recipe 600/601 for Al etching:
Etch rate: 800 nm/min
Photoresist etch rate: 400 nm/min
Standard recipe 640 for Al2O3 etching:
Etch rate: 100-120 nm/min
Substrate size: 150 mm Diameter
Allowed materials: Al, Al2O3, TiO2, Poly Si, Nb
Forbidden materials: Non IC-compatible materials
Gases: Cl2, BCl3, HBr, SF6, CF4, Ar, N2, O2, He
Pressure: 0-100 mTorr
Process temperature: 55°C
Electrode power:
Top: 0-1250 W
Lower: 0-1200 W
1994 vintage.
LAM RESEARCH TCP 9600 SEは、半導体製造および関連産業で使用される高信頼性、高生産性エッチャーまたはアッシャーです。基板や半導体ウェーハの表面に薄膜や層を堆積させる化学蒸着(CVD)プロセス用に設計されています。LAM RESEARCH TCP 9600SEは、堆積膜の全体的なエッチング率、均一性、および化学組成を改善するために設計されたさまざまな機能を提供します。TCP 9600 SEの高性能設計はDirectDriveリニアモータによって駆動され、低ドリフトでエッチングの均一性を向上させ、従来のブラシ付きモータ設計よりも大幅に静かです。また、高度な熱制御装置と、デジタルパターン認識(DPR)、温度スキャン、エネルギースキャン、電力測定など、さまざまな統合およびプログラム可能なオプションを備えています。システムの高度な静電チャック(ESC)は、プロセス全体にわたって優れた基板接着と均一な加熱を保証します。エッチャーは、200mmおよび300mmから8インチ、10インチ、および12インチまでの幅広い基板サイズに調整できます。ウエハハンドラ、調節可能な加熱ブロック、ガス流量システムを内蔵しています。モーター駆動のサブユニフォームチャンバーは、粒子の汚染を低減し、最適な均一なエッチング速度を維持するように設計されています。TCP 9600SEは信頼性が高くユーザーフレンドリーなマシンです。直感的なユーザーインターフェイスにより、CVDプロセスの操作が簡素化され、ダウンタイムの削減に役立ちます。さらに、このツールのリモートモニタリング、データロギング、診断機能により、ユーザーはプロセスの結果を監視し、必要に応じてリモートの場所から調整することができます。LAM RESEARCH TCP 9600 SEは、高性能な設計、統合された診断およびデータロギング機能、および使いやすさにより、要求の厳しい半導体エッチングおよび成膜プロセスに最適です。堅牢な設計により、信頼性の高い動作と全体的な生産性を保証します。
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