中古 LAM RESEARCH TCP 9408 SE #9178705 を販売中
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ID: 9178705
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2004
Poly etcher, 8"
Software version: 1.6.012A
SMIF System: (2) ASSYST
Process chemicals: SCCM
(1) AC Power box
(2) RF Racks
TCP RF Match part no: 853-032294-002
Bias RF match: 853-330951-001
ESC Power supply: 810-017086-018
Chamber manometer MKS make (All): E29B-23813
Turbo manometer MKS make (All): 625A-14375
Ref manometer MKS make (All): 625A-14059
Turbo pump: STPH1301L1B
TCP RF Gen.AE make(All): 660-024637-006 RFDS
Bias RF Gen.AE make( All): 3155027-003 B
Wafer drag back: Enable
Wafer offset alignment alignment: 310
Gas ring capacitance: 1300+/- 15 pf
Software version: 1.6.1
MFC Config.CL2-200 sccm: 200
MFC Config.O2-100 sccm: 100
MFC Config.HE/O2-20 sccm: 20
MFC Config.CF4-100 sccm: 100
MFC Config.HBR-500sccm: 500
MFC Config.SF6-100 sccm: 100
MFC Config.HE-500 sccm: 500
MFC Config.CL2-30 sccm: 30
TCP Coil position: 8 O'CLK
Turbo pump capacity: 1300L
Vat valve / Pendulum valve: Pendulum
2004 vintage.
LAM RESEARCH TCP 9408 SEは強力なスタンドアロンエッチャーとアッシャー装置です。半導体業界で最も要求の厳しい要件を満たすように特別に設計された高性能シリコンウェーハエッチャーおよびアッシャーシステムであり、幅広い材料を処理する能力をユーザーに提供します。このユニットは、高速で高品質のロータリーエッチヘッドを備えた精密設計された高度に自動化されたプラットフォームによって形成され、優れたプラズマの均一性とエッチング時間の短縮を提供します。この機械の特徴は、温度制御されたターボポンプ、最高の再現性と均一性を備えたエッチングとアッシング、およびハイエンドのプロセス制御を可能にすることで、エッチング速度、オーバーエッチング、膜厚、エンドポイントを正確に制御することができます。TCP 9408 SEには、高度なオンボードQCM/PCM/FIB検出器と、精密なエンドポイント検出を実現するオフボード質量分析計が装備されており、精密なエッチングとアッシングが保証されています。さらに、このツールは完全にプログラム可能で、ユーザーはさまざまなレシピを作成して保存することができます。ユーザーインターフェイスは直感的でユーザーフレンドリーで、オペレータはプロセス全体を簡単に制御および監視できます。さらに、ユーザーインターフェイス内で利用可能な診断およびプロセス監視ツールの範囲は、最高の全体的なプロセス実行の選択とレビューを可能にします。LAM RESEARCH TCP 9408 SEは、正確で堅牢なエッチングとアッシングを実現し、プロセスのスループットを犠牲にすることなく、最高レベルのプロセスの均一性を実現します。このアセットは、シリコンエッチング、ストレスリリーフ、ドーパントスパッタリングなどのエッチングおよびアッシングプロセスに最適で、III-Vや高k誘電体を含むすべての材料に優れた性能を提供します。全体として、TCP 9408 SEは優れたエッチャーおよびアッシャーモデルであり、半導体製造のプロセス再現性、生産性、品質をさらに向上させます。
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