中古 LAM RESEARCH TCP 9400 #9131590 を販売中

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ID: 9131590
ウェーハサイズ: 4"-8"
Poly/Nitride etcher, 8" System configuration Wafer transfer Cassette to cassette Chamber 1 Process Ch, 2 loadlock ch Fixed gap electrode( 11.6cm) 1.25KW and 13.56㎒ RF power supply (Process Chamber Upper/Lower) (RF generator Model : RFG 1250) Automatic match system 3-Turn TCP coil Electrode temperature unit interface Photodiode optical endpoint detector Electrostatic chuck (Process Chamber) Bottom redial gas injection Back HE cooling 1 Turbo pump(Seiko Seiki 2203) Viton /Fsilicon O-Ring Orbitally welded gas box (3) Color Tower Lamps System controller Envision –E1.5.1 / LCD moniter Pressure control Automatic pressure control(VAT65) Temperature control system Single chiller(M&W) temp control range:-20℃~+80℃).
LAM RESEARCH TCP 9400は、ハイスループットプロセス制御およびエッチング用に設計されたエッチャーおよびアッシャー装置で、最大限のプロセス柔軟性を備えています。可変電源、デジタルX-Y-zモーションコントロール、ユニバーサルプロセスチャンバー(UPC)モジュールを搭載しています。このシステムは、スマートスキャンテクノロジーを使用しており、ドリフトせずに正確なエッチングを可能にし、迅速かつ正確なエッチング深度と仕上げを可能にします。TCP 9400は、アルミニウム、アルミニウム合金、電気配線、ステンレスなどの導電性材料のエッチングに適しています。また、プロセスの再現性と精度を向上させるためのConstant Scanning Technique (CST)も備えています。このデバイスは、優れたプロセス制御でさまざまな材料を正確にエッチングする機能を備えています。LAM RESEARCH TCP 9400には、エッチングパラメータを制御するためのさまざまな設定が用意されています。これらの設定により、エッチング処理を微調整することで、最大の歩留まり効率を実現します。さらに、エッチジョブの要件に合わせて、必要に応じて設定を簡単に変更できます。ユニットはまた、手動と自動制御の両方を可能にする強力な暖房機が装備されています。これにより、プロセスチャンバと基板を正確に加熱し、最適なエッチング結果を得ることができます。また、エッチングツールはファン冷却技術を利用してエッチング性能を向上させています。このエッチアセットには、エッチング結果と安全性を向上させるための囲まれたプロセスチャンバーがあります。9400cには、強化されたプロセス制御監視機能と、エッチングプロセスの制御を改善するソフトウェアパッケージも装備されています。ソフトウェアはまた、簡単なグラフィカルユーザーインターフェイスデデータ入力とプロセス制御を可能にします。全体として、LAM RESEARCH TCP 9400cは非常に汎用性が高く柔軟なエッチャーとアッシャーモデルです。プロセス制御、簡単なグラフィカルユーザーインターフェイスデデータ入力、および最高の再現性と精度のためのコンスタントスキャン技術(CST)のための設定のフルレンジを提供しています。この装置は、さまざまなエッチング用途に最適で、アルミニウム、アルミニウム合金、電気配線、ステンレス鋼のエッチングに適しています。
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