中古 LAM RESEARCH Rainbow 4500 #293772754 を販売中

LAM RESEARCH 4500は、高性能で精密なエッチングを提供し、生産を増やし、正確なデバイス統合を実現するために設計されたエッチャー/アッシャー装置です。このエッチングとアッシングの先端技術は、ICP（誘導結合プラズマ）やICP/反応イオンエッチング（RIE）技術を組み合わせたインラインツールにより、高度なデバイス構造の精密な処理を実現します。4500は、MEMS、オプトエレクトロニクスデバイス、イオン注入、薄膜アプリケーションなどの複雑なデバイス部品の製造およびウェーハ処理に最適な中規模から大規模のエッチャー/アッシャーシステムです。高度なICP/RIEユニットは、エッチングプロセスを正確に制御するために、複数の独立したガス源を備えた最大8つの独立した制御可能なRFソースを使用する両面RFソースで設計されています。これにより、エッチングパラメータの調整が容易になり、エッチング精度が向上します。さらに、LAM RESEARCH 4500は、プロセス監視、各チャンバーの独立した制御、動的ガス制御、および同時熱加熱と冷却、ならびに精密な温度制御のための内部冷却ループを提供します。4500は、スクラップと反復可能な結果を最小限に抑えて、安全で制御された方法で再現可能なエッチングとアッシングプロセスを達成することができます。また、シングルウェーハ、マルチウェーハ、バッチフィード、シングルローディングも可能で、柔軟な構成が可能です。このマシンはまた、伝統的な化学アッシング工程だけでなく、さまざまなウェハレベルのプロセス化学物質でも動作します。LAM RESEARCH 4500は、最適化されたプロセス制御機能、正確で再現可能なアッシングサイクル、および正確なエッチングプロセスをユーザーに提供します。全体的に4500は、高度なデバイス構造の要件を満たす精密で反復可能なエッチングおよびアッシングプロセスを提供するように設計されており、統合されたデバイスの高性能を可能にします。このエッチャー/アッシャーツールは、さまざまなアプリケーションで使用できる安全で効率的で正確なエッチングとアッシングプロセスをユーザーに提供します。その高度な技術は、材料損失を最小限に抑え、スループットを向上させ、信頼性の高い結果と効果的なプロセス制御をユーザーに提供します。