中古 LAM RESEARCH Rainbow 4420 #9411613 を販売中

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ID: 9411613
ウェーハサイズ: 6"
Plasma etcher, 6"-8" EDWARDS iQDP80 / QMB500 Pump chamber Indexer type: Hine 38A, 6"-8" Robot type: Harmonic drive Robot blade: AL, 6"-8" EMO Button guard ring FST Chiller CRT Monitor Chamber type: Standard Process: Plasma cleaner Controller: 32-Bit Microprocessor with CRT AL Anodize Source type: Plasma system RF Power: OEM-12A Photodiode optical Endpoint AC2 Pressure control Temp control: Chiller Chuck Type: Mechanical clamp, 6" Match: Manual Gases: Model / SSCM / Gas UFC-1200 / 100 SCCM / O2 UFC-1200 / 300 SCCM / O2.
LAM RESEARCH Rainbow 4420は、半導体アプリケーションにおいて比類のない精度と生産性を提供するエッチャー/アッシャーです。Rainbow 4420は、強力な制御装置、さまざまなエッチレシピ、正確な温度および圧力制御など、スループットを最大限に高めるように設計された幅広い高度な機能を備えています。このシステムの堅牢な設計により、エッチングおよびアッシング結果の精度と一貫性が向上します。LAM RESEARCH Rainbow 4420は、目的のプロセスに応じて、シングルエッチングまたは同時エッチング/灰サイクルを柔軟に選択できます。複数の実行を1つの操作に統合することもできます。このユニットのコントロールマシンは直感的なユーザーインターフェイスを備えており、迅速なレシピ設定、パラメーター調整、データロギングを可能にし、プロセスの最大限の最適化とトレーサビリティを実現します。このツールのデュアルプロセスチャンバーを使用すると、複数のエッチングプロセスを同時に実行できます。Rainbow 4420はまた、高度なRF制御ガス流量装置を使用して、精密なガス流量制御と均一なチャンバー冷却を提供するユニークな大気制御モデルを備えています。また、チャンバー内の温度を一定に保つための高度な冷却ユニットを備えているため、ウェーハの再現性と正確な結果が得られます。LAM RESEARCHレインボー4420エッチャー/アッシャーの真空容量は1 Torrで、プロセス温度範囲は-15°〜+30°です。複数のエッチング/アッシュレシピを作成して保存することができ、各レシピにはエッチング精度、レート、温度、タイミングなどの調整可能なパラメータがあります。また、エッチングガスの種類も豊富で、ポリシリコン、ニッケル、アルミニウムなど20種類以上のエッチングが可能です。このツールはまた、人員や機器を保護するための高度な安全機能を備えています。Rainbow 4420は非常にエネルギー効率が良いように設計されており、推定エネルギー使用量は1時間あたり14kWhです。また、ファンとアラームモデルが内蔵されており、機器が最大容量に近づいている場合には人員に警告します。LAM RESEARCH Rainbow 4420エッチャー/アッシャーは、エッチングおよびアッシング操作の生産性と精度を最大限に高めたいラボ、企業、大学に最適な最先端のシステムです。この大容量ツールにより、正確かつ再現性の高い結果が得られ、ウェーハやコンポーネントを迅速かつ確実に製造することができます。使いやすさ、堅牢な設計、および精密制御を備えたRainbow 4420は、エッチングおよびアッシング操作の生産性を最大化するために最適です。
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