中古 LAM RESEARCH Rainbow 4420 #9262992 を販売中

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ID: 9262992
ウェーハサイズ: 8"
Plasma etcher, 8" Thru-the-wall (TTW) Status lamp SECS I Interface Cassette interface: (2) HINE 38F indexers Electrostatic Chuck (ESC) Endpoint detection: Monochromator 405nm / 520nm Turbo: SEIKO SEIKI STP H200C RF Match type: LAM RF Generator: ENI OEM-650A RF Hours: 402056 Gas Box: Orbitally welded GB Backside cooling MFC: 1250A No remote gas box Gases: N2, 200 sccm, unit 1200A CHF3, 50 sccm, unit 1200A N2, 300 sccm, area N2, 500 sccm, unit UFC 1660 CF4, 150 sccm, unit 1200A SF6, 150 sccm, unit 1200A He, 1 slm, unit UFC 1660 O2, 200 sccm, unit UFC 1660 Pump: Pump controller: iQ Series entrance Exit: EDWARDS iQDP-40 Main: EDWARDS iQDP-80 (2) SMC HRS018-WN-20-M Chillers On-board AC Distribution type: Fused No heated pumping manifolds No high conductance Manifold No ATM passivation module No remote RF cart No on-board RF generator Chiller and RF included Does not include vacuum pump Power supply: 208 VAC, 3 Phase, 5-Wire.
LAM RESEARCHレインボー4420エッチャー/アッシャーは、多種多様な基板上の侵食を低減し、修正し、複雑なパターンを作成するように設計された高性能で精密な装置です。レインボー4420は非常に汎用性の高いエッチャー/アッシャーであり、石英、シリコン、ガリウムヒ化物、その他の半導体材料を含む様々な材料を処理することができます。LAM RESEARCH Rainbow 4420は、レーザーアブレーション、イオンビーム補助エッチング、反応性イオンエッチング、化学蒸着などの高度な技術と技術を活用して、厳しい結果を生み出しています。Rainbow 4420は、幅広いアプリケーション固有の処理能力と機能を備えており、電気伝導材料の超薄層の形成など、さまざまな電子および半導体アプリケーションの特定のプロセス要件を満たすように設計されています。LAM RESEARCH Rainbow 4420は、これらの高度な機能と信頼性と効率性に定評があり、超微細な機能精度と再現性を必要とするエッチングおよびアッシング要求に最適なソリューションです。Rainbow 4420は、パフォーマンスと柔軟性の印象的な組み合わせを提供します。モジュール設計により、各アプリケーションに最適な構成が可能になり、機器のオープンプラットフォーム・アーキテクチャにより、ローカル・パラメータの迅速な交換と最適化が容易になります。LAM RESEARCH Rainbow 4420は、強力な構成可能なウエハ解析システムを搭載し、エッチングおよびアッシング結果の正確な測定と分析をリアルタイムで行うことができます。Rainbow 4420は、バッチ、シングルウェーファー、インライン処理など、さまざまなプロセスに適した信頼性の高い機械ユニットと多彩な真空チャンバーオプションを備えています。LAM RESEARCH RAINBOW 4420は、プロセスの安定性を確保し、機械による不均一性の発生源を低減するために、高度な制御および温度管理システムを採用しています。このツールには、最適な資産チューニングとパフォーマンスを確保するための自動校正プログラムも提供できます。ハイエンドのエッチングとアッシングのニーズに最適なRainbow 4420には、最大12個のプロセスレシピをロードでき、複雑なプロセスシーケンスを簡単に作成できます。LAM RESEARCH Rainbow 4420には、エッチングとアッシングに使用できる2つの独立したプラズマ源が装備されています。高精度のエンドオブプロセス監視機能により、過剰なエッチングやアッシングを防ぎ、高精度シャッターにより+/-0。2ミクロンの再現性を実現します。高度な技術仕様を備えたRainbow 4420は、幅広い業界のエッチングおよびアッシング用途に強力で正確なソリューションを業界に提供します。
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