中古 LAM RESEARCH Rainbow 4420 #9151548 を販売中

LAM RESEARCH Rainbow 4420は、半導体デバイス製造における精密性能を提供するために設計された最先端のエッチャー/アッシャー装置です。高性能な水平ベースのシステムは、高速かつ正確なエッチング速度を提供し、最も要求の厳しいエッチングおよびアッシングアプリケーションに最適なプラットフォームを提供します。Rainbow 4420は、200mmから8インチウェーハまで、さまざまなウェーハサイズを処理することができ、あらゆる種類のウェーハプロセスに適しています。クローズドサイクルの超高真空（UHV）プロセススパッタチャンバーを使用して構築されており、信頼性が高く反復可能なエッチング/アッシュサイクルを提供します。LAM RESEARCH Rainbow 4420は、最大3つのガス入力を同時に処理できます。最高の柔軟性のためのエッチングまたは灰プロセスの選択を提供します。Rainbow 4420は、信頼性の高い無線周波数（RF）駆動プロセスを誇っています。これにより、高速かつ正確なエッチング速度が保証され、パフォーマンスが向上します。最先端のエンドポイント検出機能を搭載し、エッチングプロセスの開始から終了までの制御が可能です。LAM RESEARCH Rainbow 4420は酸素、炭素Tetrafluoride、およびアルゴンのようなエッチングおよび灰プロセスガスの広い範囲を提供します。LAM RESEARCHの高度なプロセス制御オプションは、プロファイルや圧力制御オプションなど、優れたプロセス再現性を提供します。プロファイルコントロール機能は、堆積厚の制御を可能にするレシピベースのプロセスであり、圧力制御オプションはRFエネルギーを使用して粒子のエネルギーを調整し、ウェーハ間の優れた均一性を保証します。Rainbow 4420は、ユーザーフレンドリーなタッチスクリーンLCDインターフェイスや安全インターロックや自動ガスシャットオフなどの安全機能を含む、安全性を念頭に置いて設計されています。また、自動化されたプロセスロギングのためのエラーログマシンも含まれており、最大のプロセス制御と潜在的なプロセス欠陥の排除を保証します。LAM RESEARCH Rainbow 4420は、洗練された半導体エッチング/アッシングのニーズに最適なツールです。速く、正確かつ再現性のある結果により、アセットは一貫した製品歩留まりと可能な限り最高品質を保証するのに理想的です。