中古 LAM RESEARCH / ONTRAK TCP 9400 SE #9402508 を販売中
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ID: 9402508
ICP Etcher
Platform: Alliance 4.1
(2) Chambers
Chamber body: HAA
Aligner
Chuck type: BSR Clamp
Process kit:
Bottom electrode, 6"
QUARTZ Disk
Insulator ring
Gas ring
Liner
WDO, QTZ, HTD ENDPT
Cassette type:
LVCE
RVCE
Chamber oring: Viton
Throttle: STD Pendulum valve
ATH 1600 Turbo pump
STD Foreline
Heater jacket: Silicon rubber
Slot valve assembly with STD
Oring of slot valve: Perfluoroelastomer
Endpoint type: 2CH
RF Generator type:
Top: ADVANCED ENERGY RFDS1250 CE Fast loop
Bottom: ADVANCED ENERGY RFDS 1250 HALO
RF Match TCP: Assy T-match, P/N: 853-032294-002
RF Match bottom: RF Match Assy, P/N: 853-330951-021
Manometer: 0.1T/10T MKS
UPC-8130 He UPC
Gas / He line: STD
He STD dump loop
Gas Panel:
Hook up: Side feed side drop
Side exhaust
Load lock / Cassette:
Load lock type: STD VCE
Load lock Platform: STD With HAA coating
STD Cassette
Anti-static load lock cover finish
Enhanced wafer mapping
Integrated cassette sensor
Loadlock indexer: STD type
Loadlock diffuser: STD type
Wafer slide out sensor
Transfer chamber:
MAG 7 Robot
Robot Blade: STD With coating
N2 Purge bottom vent
UPC-8310 Buffer ballast
Aligner: STD Type
Front panel:
Stainless cover
(3) Color signal light tower: Red, yellow, green
Umbilical (75 feet):
Controller to mainframe
AC Rack to controller
AC Rack to mainframe
HX Control cable
Heat exchanger hose
Pump cable
Gases:
CL2 100
BCL3 100
CF4 200
O2 1000
Ar 500
(7) STD Gas lines
(7) STD Inter gas lines
(7) Filters
Power supply: 50/60 Hz.
LAM RESEARCH/ONTRAK TCP 9400 SEは、半導体ウェーハ、MEMS、 MEMSコンポーネントなどの電子部品を処理するために設計されたエッチャー/アッシャーです。この装置は、超高真空（UHV）技術を使用して、優れたプロセス精度と再現性を提供します。200mmウェーハサイズ、126ウェーハロードロックチャンバー、100ポンド（45。45kg）の重量容量を備えています。UHV設計は、モジュール構成を備えた完全自動化されたシステムであり、大量のコンポーネントを生産するために最適化されています。マシンのフロントエンドには、プラズマソース、ターゲットチャンバー、およびクリーンで制御された環境を作成するためのその他のコンポーネントを含むプロセスモジュールが含まれています。エッチング、成膜、洗浄作業用に設計されています。エッチング処理は、高出力プラズマ源を使用して、基板から材料を高精度に除去します。堆積プロセスは、材料を基板に堆積させるためのソースを利用します。チャンバーシステムは、清潔で純粋で安定したプロセス環境を構築し、粒子の汚染や汚染に関連する欠陥を最小限に抑えるのに役立ちます。TCP 940 SEのチャンバーマシンは柔軟性のために設計されており、異なるプロセス圧力を可能にし、400°Cまで温度に達することができます。アセットの自動制御ツールは、簡単なカスタマイズと自動レシピベースの処理を可能にします。その高度な制御モデルは、正確な結果と最大スループットを保証します。ONTRAK TCP 9400 SEは、MEMS製造、医療機器製造、およびその他の精密アプリケーションなどのアプリケーションに最適です。プラズマ処理の最新技術を特長とし、信頼性と再現性の高い性能、プロセス精度の向上、内部汚染の低減、歩留まりの高い生産などの利点を提供します。
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