中古 LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #9379095 を販売中

LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45
ID: 9379095
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2007
Etcher, 12" 2007 vintage.
LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45は、高度なエッチングとアッシングプロセスを1つの機器に組み合わせたガウス型アッシャー/エッチングツールです。高精度で均一な中型基板を通して、エッチングとアッシュを小さくするように設計されています。システムには高度なソース制御、グローバルプロセスのサポート、その他の機能が搭載されています。LAMONTRAK Kiyo 45は、調節可能な力、圧力、密度を提供し、均一な深さ、サイドウォール、トッププロファイルのエッチングおよびアッシングのジョブを生成するガウス型プラズマ源を備えています。このユニットは、プロセス標準化と基板歩留まり改善のために完全にプログラム可能です。LAM RESEARCH Kiyo 45には、制御されたエッチングとアッシングのための自動圧力制御(APC)と、安全な動作を確保するための排ガス流体構造(EGFS)も装備されています。また、複雑な形状の基板においても、再現性のあるエッチングとアッシングの結果を保証する、均一なガス分布のために設計された反応室を備えています。さらに、このマシンは高度なガスフィル技術とウェハマッピングツールを使用して、プロセスの変化を検出し、さまざまな製品にわたって一貫したグローバルプロセスを保証します。LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45もメンテナンスが簡単にできるように設計されています。このチャンバーには、迅速なウェーハ交換を容易にするためのリフト機構が装備されていますが、アセット自体はタッチスクリーンインターフェイスを備えており、迅速で簡単なプロセスパラメータの変更を可能にします。このモデルは、迅速なプロセスのトラブルシューティング、統合されたプロセス監視、ネットワーク機能など、さまざまな高度な機能を備えています。全体的に、ONTRAK Kiyo 45は、小型から中型の基板に完全かつ均一なエッチング&アッシングプロセスを提供するように設計された高度なエッチングおよびアッシング装置です。プロセスの安定性と再現性を確保するための高度な機能と、プロセス調整と追跡のための使いやすいインターフェースを備えています。
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