中古 LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #9375193 を販売中

LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45
ID: 9375193
ヴィンテージ: 2007
Metal etcher (2) Chambers (PM2, 3) With (2) Strips (PM1, 4) MF (EFEM/TM): Platform type: V2 (3) BROOKS 002-7200-32 Load ports BROOKS 138150 ATM Robot BROOKS 401600-201-0002-FRU TM Robot EDWARDS EPX180N IPump (Ontool pump) PM Module (PM1,2,3,4): (3) MOTORORA CPU (2) LAM RESEARCH 810-046015-009 VIOP (2) LAM RESEARCH 810-099175-103 VIOP (2) LAM RESEARCH 605-707109-001 Engenuities (2) LAM RESEARCH 605-707109-012 Engenuities (3) LAM RESEARCH 810-495659-303 ESC Power supplies OCEAN OPTICS 685-801852-005 OES OCEAN OPTICS 685-069171-002 OES MKS 797-004456-003 VODM MKS 797-00456R005 VODM (2) MKS AX7695 Revolution (2) LAM RESEARCH 839-014090-374 ESC Gas configuration: IGS Gas box (17) Gas lines (20) HORIBA SEC-Z313M Gas box MFC (3) HORIBA SEC-Z719MGX Gas box MFC (9) HORIBA D219-SCT Gas box MFC (2) MKS 649A-25014 He UPC Strip gas: (2) HORIBA SEC-Z313M Gas 3 Ar(2000) (2) HORIBA SEC-Z313M Gas 2 O2(5000) (2) HORIBA SEC-Z313M Gas 1 N2(1000) Components: (2) MKS E28B-23747, 31802 Process gauges (2) MKS 625A-14059 Chamber gauges HPS 109070019-CE TM vacuum gauge (2) TELEDYNE HPM2002-OBE-LM Air lock vacuum gauges (2) EDWARD STP-XA2703CV Turbo pumps (2) EDWARD SCU-1500 Turbo pump controllers RF Gen / Matcher: APEX APEX1513 BIAS RF Generator APEX PARAMOUNT1513 BIAS RF Generator APEX APEX1513 TCP RF Generators APEX APEX2013 TCP RF Generators LAM RESEARCH 832-038915-001 BIAS RF Matcher LAM RESEARCH 832-038915-203 BIAS RF Matcher LAM RESEARCH 853-034908-200 TCP RF Matcher LAM RESEARCH 853-043759-401 TCP RF Matcher LAM RESEARCH 834-036619-011 BIAS RF Cable LAM RESEARCH 684-111962-001 BIAS RF Cable LAM RESEARCH 834-036619-020 TCP RF Cable LAM RESEARCH 834-036619-021 TCP RF Cable 2007 vintage.
LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45は、基板用の強力なエッチャー/アッシャーです。シングルウェーハツールとして設計されており、ルーチンウェーハの製造において精密かつ正確なエッチングとアッシングプロセスを可能にします。高効率デュアルソース、マルチゾーン無線周波数(RF)ソースを搭載し、同時、低温、高温エッチングが可能です。これにより、すべてのリソグラフィープロセスで優れた均一性と再現性が得られます。このツールはまた、さまざまな基板にわたるウェーハ上のパターンの優れた再現性を提供します。ONTRAK Kiyo 45は、精密なチューニングとウェーハ全体の均一性を可能にする洗練されたプラズマプロセス制御装置を備えています。高度なシャッターシステムにより、プロセス制御を改善し、効率的なウェーハ転送を可能にします。このツールには、プラズマパラメータのリアルタイム監視を提供する光放射分光計(OES)があり、エッチングおよびアッシングプロセスのリアルタイムチューニングを可能にします。LAM RESEARCH Kiyo 45は、高級ステンレス鋼とアルミ合金から構成され、エッチングやアッシング時の低温を可能にする高効率な冷却ユニットを備えています。このツールは、優れたポンプ速度と低ノイズレベルの最新の高性能ターボポンプ真空技術を利用しています。また、3バーアウトレットRF電源と、別個の可変周波数低周波電源も備えています。Kiyo 45には最新のGUIを搭載したPCベースの制御機があり、リモートコントロールと監視が可能です。このツールは、チャンバー圧力、RF電力、ガスの流れ、温度などのプロセスパラメータを提供します。また、高度な監視および診断機能、資産安全アラームも備えています。LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45は、エッチングとアッシングプロセスに最適な生産性と再現性を実現するよう設計されています。それはあらゆるリソグラフィーの適用のための信頼でき、強力な用具です。堅牢な構造と最先端の技術により、より困難な材料でも最適な結果を提供できます。
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