中古 LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #9358697 を販売中

LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45
ID: 9358697
ヴィンテージ: 2010
Etcher 2010 vintage.
LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45は、高品質、高密度、高アスペクト比パターンを様々な素材で製造するために設計されたエッチャー/アッシャーです。この堅牢なプラットフォームは、高スループットとプロセス制御のために設計されています。ONTRAK Kiyo 45は、高いスループット、低コスト、優れたパターン寸法など、他のタイプのエッチングおよびアッシングシステムに比べていくつかの利点を提供します。LAM RESEARCH Kiyo 45の中核となるのは、先進的なプラズマ発生器であり、さまざまな導電性材料や非電導材料から高いアスペクト比の特徴を生み出すことができます。機械は厚さ6ミクロンまでのあらゆる材料の切断を可能にします。多種多様な素材に均一で高精度なパターンを提供することができます。これはレーザーと低消費電力マイクロ波発電機の組み合わせによって可能になり、エッチングとアッシングの非常に均一なプロセスを提供します。このマシンには、プロセスパラメータを正確に制御し、最適なプロセス効率と再現性を提供する統合プロセス制御システムも付属しています。これらのプロセスコントロールは、エッチングレートを調整する機能と、エッチングプロセスを監視および追跡する機能も提供します。システムには、オペレータの安全性とエッチングまたはアッシュされた製品の保護を確保するための多数の組み込みの安全機能もあります。Kiyo 45が提供する高精度かつ再現性のあるエッチングおよびアッシング工程は、大容量、高精度、高アスペクト比の微細加工アプリケーションに最適です。この機械は、金属やガラスからポリマーなどの非電導材料まで、幅広い材料で複雑で高いアスペクト比のパターンを生成することができます。この機械は医学、航空宇宙および電子工学の部品、また他の電子およびoptoelectronic部品の生産で広く使用されます。LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45はメンテナンスも容易で、100%の稼働時間を提供することができます。また、運用コストが低く、排出量が少ないため、環境負荷が非常に低くなります。これにより、あらゆるタイプのアプリケーションで精密エッチングおよびアッシング操作に最適です。
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