中古 LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #9358691 を販売中

LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45は、薄膜やコーティングのプラズマエッチングやアッシングに使用されるエッチャーまたはアッシャーです。エッチャーは、基板表面にイオン衝撃を与えずに独立した高品質のエッチングまたはアッシングを同時に生成することができる強力なRF出力を備えた、正確で反復可能で高いスループットエッチングまたはアッシングを提供します。ONTRAK Kiyo 45エッチャーは、システムへの簡単な統合を可能にするモジュラー設計を備えています。エッチャーは、2つの独立したプラズマ源を持つ二重圧力、周囲温度エッチャーです。エッチングのための1つの源およびashingのための1つの源。これにより、分離された個々の環境を両方のプロセスに提供することにより、サンプルの精密なエッチングとアッシングが可能になります。エッチャーには、各プロセスに独立したRFジェネレータが装備されており、最適なエッチングとアッシング性能を保証します。エッチャーには、エッチングおよびアッシングプロセス用の自動インラインガス制御システムもあります。LAM RESEARCH Kiyo 45エッチャーには、エッチング化学およびエッチング条件の広い広い基板のエッチング速度の均一性を最適化するために特別に設計されたアップフロー、マルチゾーン処理チャンバが装備されています。エッチャーはまた、さまざまな材料で幅広いエッチング処理を可能にする幅広いエッチケミストリーと互換性があります。Kiyo 45エッチャーは、すべてのプロセスが安全で安全な環境で実行されるように高度な安全機能を備えています。エッチャーには、大気濾過用の内蔵プレナム、健康的な作業条件を確保するためのHEPAフィルター、および長期的な耐久性を確保するためのステンレス鋼構造が装備されています。エッチャーには、基板エッチングおよびアッシング処理の正確な監視を可能にする高度なモニターおよび制御システムもあります。LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45エッチャーは、エッチングやアッシングの幅広い要求に対応できるパワフルで汎用性の高いエッチャーまたはアッシャーで、長期的な信頼性と高性能を実現します。このエッチャーは、精密で再現性があり、高いスループット性能で薄膜やコーティングをエッチングするのに最適です。