中古 LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #9351455 を販売中

LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45は、半導体ウェーハ加工用に設計されたエッチング/アッシャー装置です。精密制御と高速応答を組み合わせて最適なプロセス制御を提供するために設計された、エッチングツールのKiyoシリーズの一部です。ONTRAK Kiyo 45は、さまざまなガスミックスと2つの独立した電源を提供し、一貫して高性能を提供します。LAM RESEARCH Kiyo 45は、望ましいプロセスパラメータを維持しながら半導体ウェーハをエッチングおよびアッシャーするように設計されています。これは、2つの独立したプラズマ源と再現可能なプロセス結果を提供する高度なガス供給システムを備えています。プラズマ出力レベル、圧力、エッチング時間、不活性ガス流量などのプロセスパラメータを簡単に調整し、最適な結果を監視できます。また、高速スイッチングガスコントロールユニットを搭載しており、ガスの流れを素早く変更し、所望のプロセスパラメータを実現します。LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45はまた、チャンバー内の精密な圧力制御と均一性を提供する高度な真空機械を備えています。チャンバー圧力は、エッチング工程中に設定および監視することができ、均一で再現性のあるプロセス結果を保証します。その結果、チャンバー内の圧力レベルと均一性を確実に維持し、一貫した信頼性の高い結果を得ることができます。ONTRAK Kiyo 45は、均一な基板エッチングのためのイオンポンプツールも備えています。LAM RESEARCH Kiyo 45は、ドライエッチング、ウェットエッチング、酸化エッチング、スパッターエッチング、ケミカルエッチングなど、幅広いプロセスオプションを提供しています。このアセットは、ユーザーがプロセスを簡単に切り替えることができるように設計されています。さらに、Kiyo 45は、精密なエッチング速度を実現する自動サーボ制御機能と、プロセス監視用の統合データロガーを備えています。LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45は、多種多様な半導体ウェハプロセスに対応できる信頼性の高いエッチング/アッシャーモデルです。ONTRAK Kiyo 45は、高度な技術と専用のカスタマーサービスにより、プロセスウィンドウの効率と信頼性を向上させる堅牢なソリューションを提供します。