中古 LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #9315260 を販売中

LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45
ID: 9315260
ヴィンテージ: 2010
System 2010 vintage.
LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45は、高温基板加工の精密性能を提供するエッチャー/アッシャーです。この装置は、半導体業界でさまざまなウェーハや基板からフォトレジストをエッチングして除去するために使用されています。ONTRAK Kiyo 45は、独自のマルチチャンバーガス拡散チャンバ技術と高精度ガス供給機構を活用し、エッチング工程の制御を強化しています。LAM RESEARCH Kiyo 45のガス拡散チャンバーは、エッチング工程でのガス溶解と均一性を最大化するように特別に設計されており、目標エッチング率を正確に制御できます。チャンバーの小型化により、高温でのエッチング速度を正確に制御できます。この高温機能は、二酸化ハフニウム、酸化アルミニウム、または650℃以上のエッチング温度を必要とするシリコン酸化物層などの高K誘電体をエッチングするのに役立ちます。また、Kiyo 45は、エッチング時に正確な温度安定性を提供し、+/-1℃以内に設定できる精密な温度調節機能を備えています。システムには統合された洗浄ステーションがあり、エッチングサイクル中のプロセス残留物をさらに削減するのに役立ちます。最新バージョンのLAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45は、精密基板加工のための完全自動エッチングサイクルも提供します。ONTRAK Kiyo 45エッチャーで使用されるエッチングガスは、エッチングする材料によってCF4、 CHF3、 O2、またはArFが一般的です。ユニットのオプションのリモートモニターが利用可能で、ユーザーはあらゆるWeb対応デバイスから幅広い機械レシピと運用データにアクセスできます。全体として、LAM RESEARCH Kiyo 45エッチャー/アッシャーは、高温基板用途に最適な精密基板加工、精密な温度調節、高度なエッチング制御が可能です。エッチングサイクルを自動化し、さまざまなレシピや運用データにリモートでアクセスできるため、フォトレジスト材料をエッチングしてアッシュするための効率的なツールです。
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