中古 LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #9314595 を販売中

LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45は、プラズマエッチングとエッチング精度を実現する自動エッチャー/アッシャーです。マイクロエレクトロニクス業界では、多層チップや量子コンピューティングコンポーネントなどのマイクロスケールのコンポーネントやデバイスを作成するために使用されています。ONTRAK Kiyo 45はデュアルゾーン真空チャンバーで設計されており、完全なエンドポイント検出が可能です。現場のウェーハ温度メカニズムを搭載し、エッチング工程に正確で均一な温度を提供します。LAM RESEARCH Kiyo 45は、エッチングパラメータを制御するための柔軟性を提供する遠隔調節可能な反応チャンバーを備えています。チャンバーの壁は高級合金から構成されており、耐腐食性を確保し、過酷なエッチングプロセスに耐えることができます。さらに、エッチャーには、特許取得済みのモーターレス設計を特徴とするターボポンプとシャフト駆動ゲートバルブが装備されています。これにより、蒸着およびスパッタリングの速度を制御し、ウェーハ処理に要する時間を最小限に抑えることができます。Kiyo 45は、直感的なインターフェースを備えた高度な2チャンネル電子コントローラを搭載し、ユーザーに包括的なプロセス制御を提供します。エンドポイント判定、プラズマパラメータの自己診断、ガスやソースの配送制御など、さまざまな診断機能を備えています。さらに、LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45ではプロセスシミュレーション機能を搭載しており、開始前にプロセスの結果を予測することができます。ONTRAK Kiyo 45は、小型ウェーハや直径8インチまでの大型ウェーハなど、複数のウェーハサイズに対応できます。内蔵ロードロックチャンバーと最大2つの8インチウェーハを同時に処理できます。エッチャーはマルチスライスエッチング機能も備えており、複雑な構造のより効率的な生産を可能にします。要するに、LAM RESEARCH Kiyo 45は、微細なマイクロスケール機器の精密エッチングと成膜のための高度な機能を備えた自動エッチャー/アッシャーです。デュアルゾーン真空チャンバ、現場ウェーハ温度メカニズム、調整可能な反応チャンバ、直感的なインターフェースを備えた電子コントローラを備えています。また、複数のウエハサイズの処理も可能で、プロセス結果を正確に予測するためのプロセスシミュレーションを搭載しています。