中古 LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #9311233 を販売中

LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45は、フォトリソグラフィ、フォトレジスト、ウェハ製造などの半導体製造に使用するために設計されたエッチャー/アッシャーです。このエッチャー/ashierは、基板上のパターンの開発のための優れたプロセス制御を提供します。この装置は、最適なエッチング剤の使用で、精密で再現性のあるエッチングとアッシングの結果を提供することができます。費用対効果が高く使いやすく、最小限のトレーニングで素早くセットアップと操作が可能です。ONTRAK Kiyo 45は、専用のエッチング、エッチング、灰、洗浄チャンバーを含む4つのチャンバーデザインを備えています。プリエッチングチャンバーは、フォトレジストのドライフィルムを基板に均一に適用することができますが、エッチングチャンバーは、特定のパターンにさらされると余分なフォトレジスト材料をエッチングするのに役立ちます。灰室は灰残りを除去し、最後に洗浄室は次のステップのためにそれを準備するために基質をきれいにし、洪水させます。LAM RESEARCH Kiyo 45には、エッチングとアッシングプロセス全体をサポートする独自のソフトウェア機能も含まれています。3Dデータ取得・解析ソフトウェアを内蔵しており、パターン認識やエッチング/アッシングの再現が可能です。ジョブスケジューリング、レシピのリマッピング、自動化されたエッチング/アッシングの最適化、ジョブモニタリング機能も備えています。ソフトウェアシステムは非常にユーザーフレンドリーで、ユニット全体が使いやすく管理できるように設計されています。Kiyo 45は、さまざまなプロセス要件に合わせて、複数の物理的および化学的構成も提供します。洗練されたプロセスコントローラ、ガス供給システム、パラボラアンテナが付属しています。高度なガス供給システムは、エッチング/アッシングガスフローに対する信頼性の高い性能と精密制御を提供します。最後に、パラボラアンテナは、精密なエッチング用途に温度制御された環境を提供します。結論として、LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45は優れた性能と正確な結果を提供するように設計された高度なエッチャー/ashierです。フォトリソグラフィからウェーハ加工まで、幅広いプロセス用途に適しています。精密かつ反復可能なエッチング/アッシング機能、ユーザーフレンドリーなソフトウェアスイート、高度な物理および化学構成により、半導体製造に最適です。