中古 LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #9298318 を販売中

LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45は、半導体業界のアプリケーション向けに設計されたエッチャー/アッシャーです。半導体デバイスの製造には、シリコン、銅、アルミニウムなど、さまざまな材料の薄膜エッチングに適しています。ONTRAK Kiyo 45は、1時間あたり最大4,500ウェーハの大容量を備えており、市場で最も効率的なエッチャーの1つです。この装置は、優れたエッチング速度の均一性を提供する超低圧技術を使用しています。エッチング速度を上下に制御することで垂直プロファイルが生成され、LAM RESEARCH Kiyo 45のin-situ RIEシステムにより、複数のレイヤーを同時にエッチングすることができ、エッチング周期を大幅に短縮できます。また、特許取得済みのCPET （Constant Pressure Etching Technology）を採用し、ユニット変更に関係なく一貫したエッチング速度を確保し、市場をリードするステップカバレッジとフィーチャープロファイル制御に優れた均一性を提供します。また、LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45には高解像度イメージビューアと高解像度光放射分光機（OES）を搭載しています。OESツールは、リアルタイムのプロセス監視と制御を提供し、ユーザーはエッチング処理の進行を監視することができます。さらに、ONTRAK Kiyo 45にはガスフロー制御アセットがあり、エッチング工程のパラメータを正確に制御し、最適な結果を得ることができます。LAM RESEARCH Kiyo 45は空冷チャンバー構造を採用しており、安全で清潔で信頼性の高い運転を実現しています。このモデルは、先端材料装置（AMS）から構成されるため、業界最高の性能要件を満たしています。また、遠隔操作システム、自動安全機能、プロセスパラメータなど、高度な安全機能を備えています。全体として、LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45は、半導体業界で最も要求の厳しいエッチングおよびアッシング要件を満たすように設計された先進的なエッチャー/アッシャーです。高度なAIR COOLED構築、超低圧技術、高解像度画像表示機能により、あらゆる半導体製造施設において不可欠なツールとなっています。