中古 LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #293589528 を販売中

LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45は、III-V部品、超薄型ウエハ、シリコン集積回路（IC）などの高付加価値基板の精密ウェットエッチング用に設計されたエッチャー/アッシャーです。この最先端のエッチャー/アッシャーは、既存製品のトップダウン機能を再設計および変更するソリューションを提供し、高度なデバイスアーキテクチャの可能性を実現します。ONTRAK Kiyo 45は、プロセス室と制御装置の2つの主要コンポーネントで構成されています。プロセス部屋は励起源および熱帯を含んでいる正確に製造されたステンレス鋼のエンクロージャおよび再循環されたエッチングの解決を利用します。高性能な真空要求を満たすステンレススチールエンクロージャ、振動を最小限に抑えるための懸濁重量システム、最高温度の均一性に最適化されたベースプレートなどの設計機能を備えています。デュアル励起源によって生成される高性能のウォータージェット・プルームは、ダメージを受けやすい集積回路（IC）材料の低温処理機能を備えた完全に整列された反復可能なフィーチャー・ジオメトリを生成します。LAM RESEARCH Kiyo 45のコントロールユニットは、高性能な組み込みオートメーションエンジン、リアルタイムモニター、安全インターロックマシンで構成されています。このツールは、プロファイルとワンステッププロセスのセットアップ、リアルタイムプロセスの監視と制御、保護のためのアセットレベルとハードウェアレベルのインターロック、および高付加価値の基板のエッチングのためのいくつかの高度なプロセスレシピなど、AからZまでのエッチングプロセスを完全に制御できます。ユーザーフレンドリーなグラフィカルインターフェイスにより、プロセスパラメータに簡単にアクセスでき、プロセスパラメータの状態をリアルタイムで表示し、すべてのプロセスパラメータの完全な診断を提供します。Kiyo 45は、CEに準拠し、完全に自動化されており、再現性とプロセス再現性を確保する最小限のオペレータ介入が必要です。このエッチャーは、既存のコンポーネントの高精度な再エンジニアリングと修正、および深い機能を必要とするデバイスアーキテクチャの実現に効果的に使用できます。LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45は、安全インターロックモデルと組み込み監視および制御機能を提供し、一貫した高品質の結果を保証します。さらに、トレンチエッチング、ウェーハ薄型化、フォトマスク補修、信頼性の高いMEMSデバイス製造など、さまざまな用途にも効果的に使用できます。