中古 LAM RESEARCH / ONTRAK 2300 Kiyo45 #9407033 を販売中

LAM RESEARCH/ONTRAK 2300 Kiyo45は、高効率で信頼性の高いエッチャー/アッシャー装置です。これは、単一のウエハ上でさまざまなプロセスを処理できるマルチチャンバープラットフォームであり、商業および軍事アプリケーションの生産と開発の両方の厳しい要件を満たすように設計されています。Kiyo45システムは、機能と機能の包括的なセットで、いくつかの汎用性の高いチャンバーを備えています。これは、単一のパーカッシブ真空ポンプと高圧プラズマ源を備えており、さまざまな材料表面上のエッチング、灰、および誘電コートプロセスの完了を可能にします。この特徴の組合せはそれをハードマスクのエッチング、空気ギャップの沈殿、小さい穴または深い特徴の形成および検出の適用のような広い範囲の専門の適用のために完全にさせます。このユニットには、アンチカンバ、メイン加工チャンバ、ポストエッチング/灰チャンバ、ポストエッチング/灰/誘電室、専用PDMS乾燥チャンバーなど、幅広いプロセスチャンバが付属しています。このマシンは高度な柔軟性を提供し、レシピライブラリに作成および保存できるユニークなレシピを含む幅広いプロセスパラメータを可能にします。交流圧力主加工チャンバは、幅広い基板タイプとエッチングのレシピに対応するために、最大1000 mTに達することができます。Kiyo45ツールは、統合されたプロセス制御とユーザー権限資産で設計されており、オペレータは特定のエンジニアリングニーズに合わせて誘電エッチング、灰、沈着レシピをカスタマイズすることができます。これは、ユーザーが機器の出力を監視し、それに応じて調整して安全なプロセスと最適な結果を確保することができます内蔵パワーモニタリングモデルによってさらにサポートされています。さらに、このシステムにはデータロギングと分析ソフトウェアが搭載されており、オペレータは基板温度、膜厚、エッチング速度などのプロセスに関連するプロセスパラメータとパラメータを追跡および分析することができます。ONTRAK 2300 Kiyo45は、高度で効率的なエッチャー/アッシャーユニットで、さまざまな生産および開発アプリケーションに最適です。機能と機能の包括的なセットで設計、このマシンは、精度でプロセスパラメータの広い範囲を完了することができます。高度なプロセス制御とユーザーアクセスツール、データロギングおよび分析ソフトウェアを備えたこのアセットは、あらゆるエッチングおよびアッシュモデルのニーズに最適です。