中古 LAM RESEARCH / ONTRAK 2300 Kiyo45 #9399261 を販売中

LAM RESEARCH/ONTRAK 2300 Kiyo45は、半導体ウェーハ製造用の高速・高効率プラズマエッチング/アッシング装置です。高密度で直接パターン化されたトランジスタを含む最も複雑な構造でも、きれいかつ正確に処理することができます。このKiyo45は、デュアル回転ソース、最大200ウェハ/時間の高スループット、マルチラン温度制御、改良されたウェーハプリアライメント精度、および既存の生産ラインへの簡単で完全に自動化されたシステム統合などの高度なコンポーネントを備えています。このKiyo45は、高度な機能と精度を備えた半導体ウェーハを製造するために、デュアルソースプラズマエッチング/アッシングプロセスを採用しています。このプロセスは、最大200個のウェーハのキャンドルスティックスタックをKiyo45にロードすることから始まります。このユニットの二重回転源は、再現性と精度のために正確に制御された高エネルギーのプラズマを生成します。このプラズマは、埋め込まれた静電シールドによってウェーハを通して誘導され、望ましい材料を取り除きます。また、Kiyo45の温度制御装置を使用して、エッチング速度と選択性を正確に調整することができ、最適な結果を得るためにプロセスを微調整することができます。さらに、Kiyo45はプリアライメント精度を向上させるように設計されています。内蔵の画像認識技術は、Kiyo45が個々のウェーハを正確に識別し、エッチング前に整列させるために使用されます。この高度なツールは、手動のアライメントの必要性を取り除き、潜在的なアライメントエラーを低減します。また、Kiyo45はエッチング後の整合性検査も高速で、すべての処理済みウェーハの品質を保証します。ONTRAK 2300 Kiyo45は、高度なエッチング/アッシングプロセスに最適です。最先端のコンポーネントと高度な機能を備え、高精度の半導体ウェーハを簡単かつ効率的に製造できます。アセットのデュアルロータリーソースと温度制御モデルにより、エッチング処理を正確に制御し、比類のない結果を得ることができます。また、自動化されたウェーハプリアライメントとポストエッチング検査プロセスにより、すべてのオフライン製品の品質保証が保証されます。結論として、Kiyo45はあらゆるエッチング/アッシング処理に最適です。