中古 LAM RESEARCH / ONTRAK 2300 Exelan Flex #9329258 を販売中

LAM RESEARCH / ONTRAK 2300 Exelan Flex
ID: 9329258
ウェーハサイズ: 12"
Dielectric etcher, 12".
LAM RESEARCH/ONTRAK 2300 Exelan Flexは、高度な回路製造に適した高性能エッチャー/アッシャーです。リニアドライブウェーハステージ、12ビット傾斜ステージ、露出センサ配置スキャナーなど、幅広い機能を備えています。ウェットエッチングとドライエッチングの両方のプロセス用に設計されており、金属相互接続から2ミクロンまで、さまざまな薄膜および厚膜構造のエッチングに使用できます。さらに、2300 Exelanは、荒削り、超浅い接合部の作成、製造コンタクト、マイクロトレンチング、ポリイミドエッチングなど、幅広いプロセスに適しています。2300 Exelanは、エッチングおよび蒸着プロセスを制御するためのガス濃度制御装置(GCCS)や、プロセスパラメータを正確に制御するためのコンパクトRFジェネレータ(CRG)、プログラマブル電源(PPS)など、いくつかの高度なオプションを備えています。さらに、高解像度のスピンコーター、プラズマソース洗浄機、急速なex-situモニターを搭載し、化学物質や重要なプロセスパラメータの精密制御を可能にします。2300 Exelanは、最大100ウェハ/時間のエッチング能力を備え、高スループット動作も可能です。このスループットは、各レシピのウェーハステージに4〜8個のウェーハを配置し、お客様の特定の要件に合わせて各エッチングレシピの各レイヤーのパラメータを微調整することによって達成されます。さらに、このユニットは、レシピのセットアップを簡素化し、面倒な手動アライメントと校正プロセスを排除する直感的なHMI(ヒューマンマシンインターフェイス)を備え、オペレータに依存するエラーを低減するように設計されています。2300 Exelanは、その機能において非常に汎用性があります。ウエハレベルの金属層をエッチングするだけでなく、レジスト、ガラス、窒化物層などの有機層などの非導電材料をエッチングすることもできます。機械はまた非常によく制御されたガスの流れ、低い粒子の負荷および精密で、反復可能な変数が付いている高精度の適用のために設計されています。全体として、ONTRAK 2300 Exelan Flexは、高度な回路製造のための優れた精度とスループットを提供するように設計された高性能エッチャー/アッシャーです。このツールは、高解像度スピンコーター、プラズマソースクリーナー、GCCS、直感的なHMIなど、プロセスの再現性を保証するさまざまな機能を提供します。また、最大100ウェハ/時間のエッチング能力と幅広い材料タイプのエッチング能力を備え、高スループット動作を実現します。
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