中古 LAM RESEARCH Metal45 #9351454 を販売中

LAM RESEARCH Metal45は、半導体ウェーハのハイスループット処理用に設計されたCVDエッチャー/アッシャーです。Metal45は最先端のプロセスの柔軟性を提供し、生産環境へのシームレスな統合が可能です。LAM RESEARCH Metal45機能には、コンフォーマルプラズマの均一性、優れた負荷とアンロード機能、および最適化されたプロセス制御が含まれます。これらの機能により、Cu、 Al、 TiN、およびより要求の厳しい金属や有機物などの幅広い材料のエッチングおよびアッシングに理想的なエッチャー/アッシャーとなります。Metal45は、標準的なバックサイドエッチングとサイドウォールエッチングの両方をサポートしています。独立して作動する軸外高密度プラズマ源のペアを使用して、非常に均一なエッチングと灰の速度を保証します。LAM RESEARCH Metal45は、独自の3SICARD™装置を使用してプロセスパラメータを制御および設定し、一貫して高品質の結果を保証します。Metal45は、コンパクトなフットプリントを備えた自動システムです。これは、生産ラインへの容易な統合のために設計されており、エッチングと灰プロセスのセットアップと監視のための直感的なソフトウェアインターフェイスを提供します。自動化されたユニットは、個々の基板の要件のプロセスを最適化するために完全に構成可能です。また、LAM RESEARCH Metal45には独自のオーバーエッチングおよびリエッチング機能が搭載されており、エッチングおよび灰の処理中にプロセスパラメータを微調整することができます。Metal45マシンは、ツールのグラフィカルオペレータパネルを介してオペレータにリアルタイムで通知するように設計されており、プロセスのパフォーマンスを簡単に監視できます。LAM RESEARCH Metal45の最先端の設計は、高い信頼性とプロセスの再現性を提供し、大規模な生産に最適なエッチャー/アッシャーです。さらに、Metal45はSEMI S2-0200および大容量バッチエッチングシステムのCommon Industry Standard （CIS）に準拠しています。結論として、LAM RESEARCH Metal45は、幅広い材料タイプの信頼性、再現性、正確な処理を目的に設計された堅牢な高スループットエッチャー/アッシャーです。アセットの高度な機能により、大規模な生産環境に最適です。