中古 LAM RESEARCH Kiyo #9298588 を販売中

LAM RESEARCH Kiyo（ラムリサーチキヨ）は、豊富な用途において優れたエッチングとアッシング能力を提供するために設計されたエッチャー/アッシャーです。最先端の技術を使用して、最も要求の厳しい大量生産要件に最適です。ASMP （Advanced Source-Monitor Polarity）技術とMPAE （Multi-Point Arc-Assisted Etch）技術を活用し、優れたエッチングとアッシング性能を提供します。ASMPはLAM RESEARCH Kiyoにバイアス電圧とソース電流の異なる組み合わせで同じエッチングツールを使用する機能を提供し、新しいエッチングツールを必要とせずに複雑な設計変更を可能にします。MPAEは、基板電極とエッチングツールの間で開始される電気アークのユニークなプロセスであり、より高い精度と信頼性でガス分子をソースモニターに転送するのに役立ちます。この機能により、プロセスの再現性と効率性が向上します。また、エッチングやアッシング時に最適な温度安定性を確保する温度制御チャンバーを内蔵しています。これにより、高品質のエッチングとアッシングが保証され、プロセス中の基板損傷の可能性を減らすことができます。LAM RESEARCH Kiyoは、直径8インチまでのエッチングおよび/またはアシャリングウェーハ、厚さ200ミクロンまでのウェーハが可能です。高密度エッチング、シングルレベルエッチング、マルチレベルエッチング、サブミクロンエッチングが可能です。Kiyoは、より伝統的なオプションよりもいくつかの利点を提供するフル機能のツールです。その高度なソースモニター極性技術と多層エッチング構造は、最も必要なプロセス能力をターゲットにしており、複数工具のセットアップの必要性を減らし、より高いスループットを実現しています。精密エッチングにより極めて高い歩留まりを実現し、コンパクトな形状と小さなフットプリントにより、小さなリワークステーションやラボにも便利です。結論として、LAM RESEARCH Kiyoは機能面でパンチを詰めるエッチャー/アッシャーであり、さまざまな大量アプリケーションに最適です。高精度エッチング、優れたエッチングと灰の性能、温度安定性、柔軟な設計構造を提供します。Kiyoは、どのような研究室にとっても信頼できる効率的なツールであることを約束します。