中古 LAM RESEARCH Inova #293610308 を販売中

LAM RESEARCH Inovaは、高いスループットと精密プロセス制御を備えた高度なエッチングおよびアッシング装置です。それは市場の最も最近の装置であり、エッチングおよびashingプロセスを行うとき精度および信頼性の最高程度を提供します。Inovaシステムは、幅広いエッチングおよび灰処理タスクを処理するように設計されています。高度な超高速度スパッタエッチング/アッシング機構により設計されており、市販の他のエッチャー/アッシャーユニットよりも高いステップオーバーと解像度で高品質のエッチングおよび任意の灰の特徴幅を提供することができます。この機能は、LAM RESEARCH Inovaに高いレベルのプロセス制御と再現性を提供し、半導体製造用途に適しています。このマシンは、Etchback、 Mechanized Etch、 Reactive Ion Etch （RIE）などのさまざまなプロセスオプションを提供しています。また、高度なプラズマ強化ケミカルエッチング（PECE）機能を備えているため、プロセス条件の柔軟性が向上し、（チャンバーが真空中であっても）時間の経過とともに調整の手当が得られます。Inovaには、Adaptive Process Control （APC）、 Advanced Profile Control （APC）、 Adaptive Profile Control （APC）などの幅広いカスタマイズ可能な機能もあります。これらの機能により、ユーザーは即座にプロセスシーケンスを変更し、プロセスパラメータを要件に微調整することができます。さらに、LAM RESEARCH Inovaは自動レシピローディングツールを備えており、ユーザーが提供するレシピをコントローラにロードすることで、あるプロセスから別のプロセスに簡単に移行できます。これにより、スループットが向上し、オペレータの介入の必要性が低減されます。Inovaはまた、カスタムテイラードソリューションを含むエッチレシピの豊富なライブラリと、ユーザーが望むエッチングとアッシング条件を簡単に達成できる独自の内部レシピを誇っています。さらに、直感的で使いやすいインターフェイスとユーザーフレンドリーなグラフィカルユーザーインターフェイスを備えたLAM RESEARCH Inovaは、オペレーターの経験が限られていても、プロセスを簡単かつ簡単に制御する方法を提供します。Inovaは、エッチングとアッシングの両方に対応する強力なツールであり、ユーザーに最高レベルのプロセス制御と柔軟性を提供します。堅牢で信頼性の高い設計により、LAM RESEARCH Inovaは幅広い半導体アプリケーションに最適なソリューションです。