中古 LAM RESEARCH Inova #293610305 を販売中

LAM RESEARCH Inova
ID: 293610305
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2005
System, 12" Process: Metal 2005 vintage.
LAM RESEARCH Inovaは、重要なエッチングおよび乾燥プロセスに使用される高度なエッチャー/アッシャーです。半導体業界の先進的なウエハ加工に最適です。その統合された設計は高いスループットおよび優秀な品質管理の優秀な性能を提供することができます。Inovaは強力なIGI電源制御システムと堅牢な加熱および冷却素子を誇り、正確な温度と電力制御を提供します。このユニットは、圧力、反応時間、温度などのプロセスパラメータを制御し、均一なエッチング速度と優れたプロセス一貫性を確保することができます。この統合設計には、エッチング工程で使用される重要な前駆ガスを正確に測定する高精度のマスフローコントローラも含まれており、プロセス歩留まりの向上につながる精度を提供します。LAM RESEARCH Inovaは、高度なガス制御機能に加えて、高度な材料選択と清浄度制御も提供しています。その高度なガス清浄度モジュールは、パーティクルフリーのプロセスガスを提供し、自然なエッチング環境と高度な基板の信頼性の高いエッチングを保証します。また、幅広い材料から基板を選択できるため、異なるデバイス用途に合わせてプロセスをカスタマイズできます。Inovaは、プロセスインテリジェンスを提供し、データロギングを有効にし、レシピのセットアップとリビジョンを容易にするように設計された広範なソフトウェアパッケージでサポートされています。その直感的なヒューマンマシンインターフェイス(HMI)は、使いやすいように設計されており、ユーザーはすべてのツールアクティビティに対応していることを保証します。LAM RESEARCH Inovaは、APC (Automated Process Control)資産も提供しており、プロセスのリアルタイム監視、厳格なプロセス制御、プロセス最適化のための貴重な情報を提供します。統合された高効率設計に加えて、Inovaはエネルギー消費に関しても非常に効率的です。ユーザーのニーズに合わせて環境フットプリントをカスタマイズできる汎用性の高い排気設計により、モデルの効率がさらに向上します。LAM RESEARCH Inovaもメンテナンスフレンドリーで、ダウンタイムを削減し、信頼性を向上させるように設計されています。印象的な機能に加えて、Inovaも非常に手頃な価格です。堅牢な設計と高度な機能により、あらゆる半導体エッチングおよびアッシングプロセスにおいて費用対効果の高いソリューションとなります。LAM RESEARCH Inovaは、統合された設計、高度なプロセス制御、および費用対効果により、半導体産業のエッチングおよびアッシングプロセスに最適です。
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