中古 LAM RESEARCH FLEX DS #9311091 を販売中

LAM RESEARCH FLEX DSは、さまざまな半導体材料において高いスループットと正確なエッチングを提供するように特別に設計された先進的なエッチャー/アッシャーです。FLEX DSは、蒸気エッチング、ドライエッチング、酸化エッチング、酸化物アッシングなどの高度なエッチング処理をサポートします。プロセス性能を最適化するために、LAM RESEARCH FLEX DSはエッチングされた表面の品質を常にチェックする精密なEtch Proximity Sensorモジュールで設計されています。このシステムは、最大600mmのウェーハを処理することができますが、プロセスチャンバーはステンレス鋼から構成されており、熱絶縁性を高め、効率的かつ正確な温度制御を可能にします。すべての重要なプロセスは、Chamber Pressure Controllerとシステムに組み込まれたプロセス制御アルゴリズムによってリアルタイムで監視されます。一貫して再現可能なプロセスを確保するために、各FLEX DSには、エッチシャフトのガス/蒸気組成を維持する機能であるガス比率制御が装備されています。LAM RESEARCH FLEX DSは、エッチングされる材料の拒絶率を最適化するために設計されたハイテクなシャワーヘッドを備えています。新しいFuzzi-Free技術は、ファジーエッジを除去し、エッチング工程中のインシデント角度の変化を排除することにより、エッチングの均一性を向上させます。一貫した結果を得るために、FLEX DSには、優れたエッチング性能を保証する特許取得済みのインパルスガス前処理機能が装備されています。安全性と均質性のために、LAM RESEARCH FLEX DSには、プラズマによって必要とされるエネルギーの異なるレベルを設定するために調整することができるユニークなプラズマ点火装置が装備されています。さらに、FLEX DSにはスマートなSIF保持蓋が用意されており、各エッチサイクルの前後にプラズマの完全性を保証します。蓋は安全シールドとしても機能し、毎分最大210トルクサイクルに耐えるようにテストされています。LAM RESEARCH FLEX DSは、あらゆるタイプのサブミクロンおよび低k誘電エッチングに最適なエッチャー/アッシャーソリューションです。高度な技術により、FLEX DSは最適なパフォーマンスと優れたエッチング歩留まりを提供します。