中古 LAM RESEARCH FLEX DS #9271261 を販売中

LAM RESEARCH FLEX DSは、半導体回路の製造用に設計されたエッチャー/アッシャーです。反応イオンと高度なエッチングおよび洗浄技術を使用して、基板上の望ましい特徴のエッチングパターンを作成します。また、誘電体の層の形成やバリア/粒子金属の堆積、接着層、誘電体、バリアフィルムなどの様々な堆積技術を提供しています。FLEX DSには、高度なデュアルソースおよびデュアル周波数プラズマソースが搭載されており、最適なエッチングおよび蒸着プロセスと結果を提供するために調整することができます。また、多周波操作モードを備えているため、さまざまな種類の基板やジョブ割り当てにさまざまなプロセスレシピを使用できます。装置は厳密なプロセス制御および高精度を保障する多数の調理法変数と設計されています。LAM RESEARCH FLEX DS etcherには、ソースとターゲットの両方で均一なエッチングを保証するチャンバー監視システムが含まれています。特許取得済みのエッジ検出ユニットが付属しており、基板のエッジのエッチング手順を自動的に検出して排除します。高度なセンサー技術は、低粒子保持とウェーハ損傷を保証します。エッチャーは非常に汎用性が高く、ドライエッチング、ウェットエッチング、成膜、ディープエッチング、フォトレジストエッチング、プラズマ強化化学蒸着（PECVD）、バリアフィルムエッチングのための複数のプロセスタイプが含まれています。また、シリコン、GaAs、サファイア、ガラスなど、幅広い素材に対応できます。FLEX DSはまた、高度なユーザーフレンドリーなインターフェースを備えた内部で開発されたマシンアーキテクチャを備えており、簡単なツール制御とレシピ管理を可能にします。LAM RESEARCH FLEX DS etcherは、資産の効率と生産性を最大化するために、メンテナンス、プロセス監視、および既存の工場管理および生産管理システムへの統合を容易にするように設計されています。動的機器の状態監視、詳細なスループットと歩留まりデータ、カスタマイズ可能なバッチレポートを備えています。さらに、FLEX DS etcherには高度なフリート管理モデルが含まれており、リソース割り当てを自動化できます。これにより、手動による意思決定によりオペレータの時間が短縮されます。要約すると、LAM RESEARCH FLEX DSは半導体回路の製造用に設計された高度なエッチャー/アッシャーです。デュアルソースおよびデュアル周波数プラズマ源を備えており、エッチングおよび蒸着プロセスの改善を可能にします。この装置には、多数のパラメータ、監視システム、エッジ検出ユニット、さまざまなプロセスタイプ、フリート管理マシン、およびカスタムレポートも含まれています。これらのすべての機能により、FLEX DSは信頼性の高い効率的な半導体エッチングおよびアッシング機能を必要とする企業にとって理想的なソリューションとなります。