中古 LAM RESEARCH Flex 45 #9407023 を販売中
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ID: 9407023
ヴィンテージ: 2009
Etcher
(4) Chambers
AC Rack
VTM
RPDB
GIB
Main frame:
Platform type: V2
(3) Load ports
ATM Robot
TM Robot
I-Pump
PM Module:
(4) CPU
(4) VIOP
(4) ESC Power supplies
(4) OES
(4) ESC
Gas:
Gas box type: IGS
(17) Gas lines
(68) Gas boxes MFC
(9) He UPC
Vacuum gauge:
(4) Process vacuum gauges, 0.1 Torr
(4) Chamber vacuum gauges, 1 Torr
(4) Fore line vacuum gauges, 10 Torr
TM Vacuum gauge
(2) Air lock vacuum gauges
(2) Air lock heating gauges
Pump:
(4) Turbo pumps
(4) Turbo pump controllers
RF Generator / Matcher:
(4) RF Generators, 2 MHz
(4) RF Generators, 27 MHz
(4) RF Generators, 60 MHz
(4) RF Cable lengths, 2 MHz
(4) RF Cable lengths, 27 MHz
(4) RF Cable lengths, 60 MHz
2009 vintage.
LAM RESEARCH Flex 45は、半導体産業のエッチャー/アッシャー機器です。このシステムは、高密度プラズマ技術に基づいており、高周波パルス電力を介してウェーハをエッチングおよびクリーニングするように設計されています。これにより、最適なスループットを維持しながら、高度な機能の高精度パターニングが可能になります。このユニットは、重要なエッチング層で最高の均一性を確保するように設計されたLAMのRF分布ネットワークを利用し、ウェーハ損失を低減するために最大のプロセス制御を備えた環境を提供します。このマシンには、2つの高周波、高出力発電機と2つのリングスタイルのファラデーケージ電極が装備されています。ファラデーのケージ電極は、プラズマの均一性と予測可能なエッチング機能を確保するのに貢献します。この制御は、ユーザーがエッチングプロセスを特定のニーズに合わせて調整できるため、エッチングプロセスにとって重要です。このツールは高度なプロセス制御と監視アセットを備えており、正確な追跡とウェーハ履歴のロギングを可能にし、デバッグと最適化を容易にします。モデルは空気カーテンによって保護され、部品の避難、低粒子の環境およびウェーハのクリーニングのための真空装置が含まれています。さらに、システムはドライストリップ機能を備えており、不要なフォトレジスト層を細かい構造から除去することができます。オペレータが適切なプロセスレシピを簡単に選択または変更することができながら、ユニットは、最大の稼働時間を確保するために、モジュラーアーキテクチャで構築されています。このマシンは、ポンプ、電源、ヒーターなどの標準的なハードウェアコンポーネントを使用して、既存の構成をすばやく変更およびアップグレードできるように設計されています。このツールはまた、高度な計測機能を備えており、プロセスをさらに最適化してレシピを開発するための自動計測システムとの完全な統合を提供します。最後に、このアセットには自動光波マッピング機能が搭載されており、優れたウェーハ間の均一性を実現します。全体として、Flex 45エッチャー/アッシャーモデルは、高精度のエッチングおよび洗浄機能、高度なプロセス制御および監視、および最適化された計測機能を備えた先進技術です。この装置は、最大スループット、低粒子環境、高精度エッチング層を確保するために設計されており、半導体業界での使用に最適です。
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