中古 LAM RESEARCH Exelan HPT #195406 を販売中

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ID: 195406
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2001
Oxide etcher, 8" (3) Chambers Configuration: Transfer Module: A6 VCE: L-VCE : Brooks 004-9200-24 R-VCE : Brooks 004-9300-24 Robot: BROOKS, Magnatran7, Model 002-4037-02 PM-1: EXELAN HPT PM-2: EXELAN HPT PM-3: EXELAN HPT Aligner: present Aligner Controller: Model 001-4130-03 User Interface: CRT Monitor, PC, Keyboard, Signal Tower Gas Box: Standard 8-Channel (With GIB) TMP-PM1: ALCATEL ATH1600M TMP-PM2: ALCATEL ATH1600M TMP-PM3: ALCATEL ATH1600M RPM: 685-495112 Main-Power UPS-Power Signal Tower: 3-Color (red, green, yellow) EMO: Push Button Arm type: twin arm Lid lifter: present Wafer Detection System EMO Hub Cable receways Facilities Distribution PM Gate Valves: 853-442064-002 TM Vacuum Valve: 796-095595-001 VCE Vacuum Valve: 796-094747-002 Module Configuration(M/D,P/N,S/N) Process module type: Exelan HTP One Box: ENI Parts NO : OB1-R03, LRC Parts NO.: 660-099877R101 CM gauge-1 (process chamber): MILLIPORE, 2Torr CM gauge-2 (manifold chamber): MKS, 10Torr Turbo pump: ALCATEL, ATH1600M Turbo pump controller: ALCATEL, ACT 1300M/1600M Throttle valve: Pendulum Valve, 65046-PH52-ALQ1 CM gauge-1 (process chamber): MKS, 629A-14608, 0.1Torr CM gauge-2 (manifold chamber): MKS, 625A11TDE, 10Torr CM gauge-3 (foreline): MKS, 625A11TDE, 10Torr Turbo bypass valve: - Turbo exhaust valve: Present Slot valve: Present, 853-442064-002 Endpoint detector: 4-CH(A-390nm, B-480nm, C-440nm, D-400nm) Cooling He MFC: MKS Type649 Turbo Pressure Switch - 1: Present Turbo Pressure Switch - 2: Present Chamber Vacuum Switch: Present Chamber ATM Switch: Present Gas No Gas Name Range Model 1 AR 1L UNIT, UFC-8161 2 N2 200CC UNIT, UFC-8161 3 O2 50sccm UNIT, UFC-8161 4 CF4 100sccm UNIT, UFC-8161 5 CHF3 50CC UNIT, UFC-8161 6 O2 20CC UNIT, UFC-8161 7 CH2F2 50sccm UNIT, UFC-8161 8 C4F8 20CC UNIT, UFC-8161 Chamber Parts - Bad ESC - Bad (Crack & Chipping) 2001 vintage.
LAM RESEARCH Exelan HPTは、最先端の半導体デバイスの高精度エッチングおよび灰処理の性能要件を満たし、それを超えるように設計されたエッチャー/アッシャーシステムです。MEMSデバイス、集積回路、その他の新規デバイスなどのアプリケーションに使用されます。この装置は、高精度で自動化されたプロセス制御機能を使用しており、高スループット、優れた処理均一性、および優れたプロセス再現性を実現します。Exelan HPTは、マルチタンク処理モジュール、高負荷ロック、インターフェースチャンバー、ウェハハンドリングステーション、真空ポンプで構成されています。このシステムの美しさは、最適な結果を保証するために、オプションの統合された自動in-situクリーニングユニットで提供されることです。マルチタンクモジュールは、異なるタイプの材料を効率的に処理するために、最大3つの処理タンクと回収タンクを提供します。デュアルタンクモジュールは、単一の基板またはデュアル基板構成で提供され、ウェット/ドライエッチング、ウェット/ドライオキシドエッチング、ウェット/ドライプロテクティブコーティング、無電解めっき/スパッタリングなど、幅広い処理モードを提供します。荷重ロックを強化することで、ウェーハの取り扱いと荷降ろしを向上させることができます。インターフェースチャンバーは、基板と処理工程のいずれかで使用されるガスや液体との間のクロスコンタミネーションを防止します。ウェーハハンドリングステーションは、処理タンク、プローブ、およびその他の周辺機器間の自動ウェーハ転送を提供します。汎用性の高いLAM RESEARCH Exelan HPTマシンは、ワークフローの柔軟性を最大限に高めるための多言語メニューツールも提供しています。この機能により、オペレータはアプリケーションの特定の処理ニーズに応じてアセットをプログラムおよび制御できます。このモデルには、プロセス監視、ユーザー定義のレシピ制御機能、サポート機能など、多くの制御機能も備えています。Exelan HPTの優れた性能により、高精度エッチングと灰処理に最適な機器です。このシステムの柔軟性により、幅広い材料や基板の効率的かつ再現性の高いエッチングが可能となり、高いスループットと優れた処理連続性を実現します。半導体デバイス製造におけるハイエンドエッチング用途に最適です。
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