中古 LAM RESEARCH Exelan HPT #195406 を販売中
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販売された
ID: 195406
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2001
Oxide etcher, 8"
(3) Chambers
Configuration:
Transfer Module: A6
VCE: L-VCE : Brooks 004-9200-24
R-VCE : Brooks 004-9300-24
Robot: BROOKS, Magnatran7, Model 002-4037-02
PM-1: EXELAN HPT
PM-2: EXELAN HPT
PM-3: EXELAN HPT
Aligner: present
Aligner Controller: Model 001-4130-03
User Interface: CRT Monitor, PC, Keyboard, Signal Tower
Gas Box: Standard 8-Channel (With GIB)
TMP-PM1: ALCATEL ATH1600M
TMP-PM2: ALCATEL ATH1600M
TMP-PM3: ALCATEL ATH1600M
RPM: 685-495112
Main-Power
UPS-Power
Signal Tower: 3-Color (red, green, yellow)
EMO: Push Button
Arm type: twin arm
Lid lifter: present
Wafer Detection System
EMO Hub
Cable receways
Facilities Distribution
PM Gate Valves: 853-442064-002
TM Vacuum Valve: 796-095595-001
VCE Vacuum Valve: 796-094747-002
Module Configuration(M/D,P/N,S/N)
Process module type: Exelan HTP
One Box: ENI Parts NO : OB1-R03, LRC Parts NO.: 660-099877R101
CM gauge-1 (process chamber): MILLIPORE, 2Torr
CM gauge-2 (manifold chamber): MKS, 10Torr
Turbo pump: ALCATEL, ATH1600M
Turbo pump controller: ALCATEL, ACT 1300M/1600M
Throttle valve: Pendulum Valve, 65046-PH52-ALQ1
CM gauge-1 (process chamber): MKS, 629A-14608, 0.1Torr
CM gauge-2 (manifold chamber): MKS, 625A11TDE, 10Torr
CM gauge-3 (foreline): MKS, 625A11TDE, 10Torr
Turbo bypass valve: -
Turbo exhaust valve: Present
Slot valve: Present, 853-442064-002
Endpoint detector: 4-CH(A-390nm, B-480nm, C-440nm, D-400nm)
Cooling He MFC: MKS Type649
Turbo Pressure Switch - 1: Present
Turbo Pressure Switch - 2: Present
Chamber Vacuum Switch: Present
Chamber ATM Switch: Present
Gas No Gas Name Range Model
1 AR 1L UNIT, UFC-8161
2 N2 200CC UNIT, UFC-8161
3 O2 50sccm UNIT, UFC-8161
4 CF4 100sccm UNIT, UFC-8161
5 CHF3 50CC UNIT, UFC-8161
6 O2 20CC UNIT, UFC-8161
7 CH2F2 50sccm UNIT, UFC-8161
8 C4F8 20CC UNIT, UFC-8161
Chamber Parts - Bad
ESC - Bad (Crack & Chipping)
2001 vintage.
LAM RESEARCH Exelan HPTは、最先端の半導体デバイスの高精度エッチングおよび灰処理の性能要件を満たし、それを超えるように設計されたエッチャー/アッシャーシステムです。MEMSデバイス、集積回路、その他の新規デバイスなどのアプリケーションに使用されます。この装置は、高精度で自動化されたプロセス制御機能を使用しており、高スループット、優れた処理均一性、および優れたプロセス再現性を実現します。Exelan HPTは、マルチタンク処理モジュール、高負荷ロック、インターフェースチャンバー、ウェハハンドリングステーション、真空ポンプで構成されています。このシステムの美しさは、最適な結果を保証するために、オプションの統合された自動in-situクリーニングユニットで提供されることです。マルチタンクモジュールは、異なるタイプの材料を効率的に処理するために、最大3つの処理タンクと回収タンクを提供します。デュアルタンクモジュールは、単一の基板またはデュアル基板構成で提供され、ウェット/ドライエッチング、ウェット/ドライオキシドエッチング、ウェット/ドライプロテクティブコーティング、無電解めっき/スパッタリングなど、幅広い処理モードを提供します。荷重ロックを強化することで、ウェーハの取り扱いと荷降ろしを向上させることができます。インターフェースチャンバーは、基板と処理工程のいずれかで使用されるガスや液体との間のクロスコンタミネーションを防止します。ウェーハハンドリングステーションは、処理タンク、プローブ、およびその他の周辺機器間の自動ウェーハ転送を提供します。汎用性の高いLAM RESEARCH Exelan HPTマシンは、ワークフローの柔軟性を最大限に高めるための多言語メニューツールも提供しています。この機能により、オペレータはアプリケーションの特定の処理ニーズに応じてアセットをプログラムおよび制御できます。このモデルには、プロセス監視、ユーザー定義のレシピ制御機能、サポート機能など、多くの制御機能も備えています。Exelan HPTの優れた性能により、高精度エッチングと灰処理に最適な機器です。このシステムの柔軟性により、幅広い材料や基板の効率的かつ再現性の高いエッチングが可能となり、高いスループットと優れた処理連続性を実現します。半導体デバイス製造におけるハイエンドエッチング用途に最適です。
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