中古 LAM RESEARCH EOS #293601477 を販売中
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LAM RESEARCH EOSは、半導体加工に使用するために設計されたエッチャーおよびアッシャーです。強力で完全に統合されたエッチングチャンバーを備えており、エッチングやフロントツーバックベンドなどの重要なプロセスに優れたエッチング速度と均一性を提供します。この装置は複数の層を同時にエッチングすることができ、非常に高精度なウェーハエッチングが可能です。EOSシステムは、シリコン、ゲルマニウム、SOI、高k、銅、アルミニウム、およびタングステンを含む幅広い材料をエッチングおよびアッシャーするために使用できます。これは、信頼性の高いシングルウェーハ処理チャンバを使用しており、優れたエッチングレートの均一性を提供し、ウェーハ全体で+/-1％の均一性を提供します。このユニットは、直径200mmまでのウェーハをエッチングすることができ、毎時200までのウェーハを処理することができます。シームレスで繰り返し可能なプロセスを確保するため、LAM RESEARCH EOSでは、単一のウェーハ、マルチレイヤー、マルチエッチングシーケンスなど、複数のエッチングおよびアッシングモードを提供しています。これにより、マイクロステップ調整および飽和制御機能により、プロセス制御と精度を向上させることができます。さらに、EOSには、プロセスのガスや密度を検出するために設計されたクローズドループのフィードバック機構や、理想的なプロセス条件を確保するために基板温度を監視するサーマルセンサーなど、さまざまなセンサーと検出器があります。LAM RESEARCH EOSは、正確で再現性のあるプロセスを実現する能力を備え、高い生産性と品質を備えています。LAM RESEARCH特許取得済みの高密度プラズマ（HDP）プロセス技術の恩恵を受けます。堅牢なエンジニアリング、費用対効果の高い操作、優れたエッチング速度を備えたEOSは、あらゆる高性能エッチングおよびアッシングマシンに最適です。
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