中古 LAM RESEARCH Autoetch 490B #9245067 を販売中

ID: 9245067
Automatic Plasma Etcher Includes: ENI OEM-6M-01 / OEM-6 XL RF Generator M&W SYSTEMS RPCX17A-D-DI2x10-LI-CMII-HE Flowrite recirculating cooling chiller system LAM RESEARCH 853-006117-001 Assy RF Match bulkhead LAM RESEARCH 853-001142-001 Automatch controller LAM RESEARCH 853-006233-001 Assy LAM RESEARCH 853-001983-005 End point detector assy TYLAN General AC-2 AdapTorr vacuum controller NOR-CAL PRODUCTS 796-008091-001 Pneumatic valve TYLAN General MDVX-015S08 Vacuum throttle valve TYLAN General CMLB-11S01 Pressure transducer, 10 Torr UNIT INSTRUMENTS UFC-1000 Mass flow controller, MFC, CF4, 100 SCCM UNIT INSTRUMENTS UFC-1200 Mass flow controller, MFC, CHF3, 50 SCCM UNIT INSTRUMENTS UFC-1200A Mass flow controller, MFC, CL2, 200 SCCM UNIT INSTRUMENTS UFC-1200A Mass flow controller, MFC, He, 200 SCCM UNIT INSTRUMENTS UFC-1200A Mass flow controller, MFC, SF6, 200 SCCM.
LAM RESEARCH Autoetch 490Bは、幅広いエッチングおよびアッシングプロセス用に設計された高度なエッチャー/アッシャー装置です。これは、毎回最適な結果を確保するための機能のユニークな配列が装備されています。メインフレーム、統合バッファガスユニット、Advanced Process Control (APC)ユニット、高解像度光マシン、垂直チャンバーで構成されています。メインフレームは、エッチングおよびアッシングプロセスに最適な条件を提供するさまざまなガスシステムを使用して効率的に動作するように設計されています。精密な熱制御のための高度な温度調節器と高性能運転のための高圧ポンプが装備されています。統合されたバッファガスユニットは、エッチングとアッシングガスを正確に混合し、均一なエッチングとアッシングを実現します。Advanced Process Control (APC)ツールは、プロセス制御を最適化するための多くの機能を提供します。これには、エンドポイント検出、自動基板プレゼンテーション、調整可能なレシピパラメータ、および自動基板ローディングが含まれます。さらに、APCは、プロセス条件のリアルタイム監視とデータロギングによる自動調整を可能にします。オートエッチング490Bアセットには、高解像度の光学モデルが搭載されており、正確なパターン作成が可能です。明るい光源と高解像度の光学素子を備え、視認性を最適化するための最上位照明源を備えています。また、拡張パターニング機能のための広い視野も内蔵しています。最後に、LAM RESEARCH Autoetch 490Bは、安定した動作のための垂直チャンバーで設計されています。部屋は均一な暖房および冷却を保障する均一な配分システムが付いている最高の効率のために設計されています。さらに、チャンバーには調整可能な温度制御ユニットがあり、タイトパラメータ内のプロセス条件を維持します。全体的に、Autoetch 490Bは、毎回最適な結果を保証するためのユニークな機能の配列を備えた高度なエッチングおよびアッシングマシンです。LAM RESEARCH Autoetch 490Bは、高解像度光学系、統合バッファガスユニット、調整可能なレシピパラメータ、自動基板ローディングおよびエンドポイント検出により、高性能エッチングおよびアッシングプロセスの信頼性の高いツールです。
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