中古 LAM RESEARCH Autoetch 490 #293697198 を販売中
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ID: 293697198
Plasma etcher, 6"
Type: Single-wafer processing
Configurable for 3"-6"
TFT Monitors upgraded
Wafer detection
Fully automated microprocessor control
Cassette-to-cassette wafer processing
Vacuum load locked
Programmable variable electrode spacing
Endpoint detection
Stand-alone or bulk-head mount
ENI RF Generator
No chiller
No pump.
LAM RESEARCH Autoetch 490は、12インチウェーハまでのマイクロエレクトロニクス材料を迅速かつ正確にエッチングするように設計されたエッチャー/アッシャーです。高アスペクトエッチング、ハードマスクエッチング、0。25ミクロンまでの特長サイズ、浅いエッチング、深いエッチングなど、集積回路の製造に使用されるさまざまなエッチング作業に最適です。オートエッチング490は、高真空エッチングチャンバー、緩衝ガス供給装置、および精密なロボット基板位置決めシステムを備えています。ミリ秒応答による精密エッチング制御により、小型の機能や超薄型構造の高いスループットを実現します。LAM RESEARCH Autoetch 490は、大型ウエハ全体のエッチング速度を正確に一致させる高精度のロボット位置決め機を採用しています。その真空ツールは、milliTorr範囲で高い処理圧力に達することができます。Autoetch 490は、300nmのショットサイズで高精度な動作を提供するための電源連動機能を内蔵しています。ポリマーを交差させることでエッチング率を最大化し、基板表面全体のエッチング深さを均一にするイオン爆撃アセットを搭載しています。また、基板表面を損傷することなく、高アスペクト比などのエッチング指示を可能にするガス最適化モデルも備えています。この装置はまた、エッチング速度の変化に非常に敏感であり、in situ粒子検出技術を搭載して、in situイオン、ガス、および粒子を監視します。LAM RESEARCH Autoetch 490は、エッチプロファイルチューニング用の温度チャンバー、エッチレートを迅速にチューニングするための引数チャンバーなど、制御を改善するためのシステムに組み込むことができるさまざまなプロセスモジュールを提供しています。また、エッチングパラメータを効果的に制御するための特許取得済みの充電中和ユニットを搭載し、高アスペクト比を必要とするエッチング用途での性能を向上させています。Autoetch 490は、金属および酸化金属層の浅いエッチングや深いエッチングなど、マイクロエレクトロニクスおよび半導体加工に最適なツールです。この機械は産業および研究の両方のニーズに対応し、短いサイクルタイムで正確で繰り返し可能なエッチング結果を提供します。トータルコストを最小限に抑えるために設計された、信頼性が高く、堅牢で費用対効果の高いエッチングソリューションです。
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