中古 LAM RESEARCH Alliance A6 9400 DFM #9027019 を販売中
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販売された
ID: 9027019
Poly etcher
Software version: A2.1.1-009
Main body: Alliance 6
Process module 1: Alliance stripper
Process module 2: 9400 DFM
Process module 3: 9400 DFM
Process module 4: Alliance stripper
Monitor rack: Alliance PC and T-box, Japanese type (mm screw)
Chiller: Risshi EX-2004
UPS: Nemic Lambda PS 1210
Turbo pump and controller:
PM-2 turbo pump: Alcatel ATH-1600M
PM-2 controller: Alcatel ATC-1300M/1600M
PM-3 turbo pump: Alcatel ATH-1600M
PM-3 controller: Alcatel ATC-1300M/1600M
Dry pump:
Transfer module: Edwards iQDP80
Loadlock: Edwards iQDP80
PM-1: Edwards iQDP80 / QMB500F
PM-2: Edwards iQDP80
PM-3: Edwards iQDP80
PM-4: Edwards iQDP80 / QMB500
RF generator:
PM-2 top: Advanced Energy RFDS
PM-2 bottom: Advanced Energy RFG1250 Halo
PM-3 top: Advanced Energy RFDS
PM-3 bottom: Advanced Energy RFG1250 Halo
MFC:
PM-1:
Gas 1: AERA, FC-D980C, 02, 5000 SCCM
Gas 2: AERA, FC-D980C, N2, 1000 SCCM
PM-2:
Gas 1: AERA, FC-D980C, Cl2, 200 SCCM
Gas 2: AERA, FC-D980C, HBr, 500 SCCM
Gas 3: AERA, FC-D980C, O2, 10 SCCM
Gas 4: AERA, FC-D980C, He, 200 SCCM
Gas 5: AERA, FC-D980C, SF6, 200 SCCM
Gas 6: AERA, FC-D980C, O2, 200 SCCM
Gas 7: AERA, FC-D980C, CF4, 200 SCCM
Gas 8: AERA, FC-D980C, CHF3, 200 SCCM
PM-3:
Gas 1: AERA, FC-D980C, Cl2, 200 SCCM
Gas 2: AERA, FC-D980C, HBr, 500 SCCM
Gas 3: AERA, FC-D980C, O2, 10 SCCM
Gas 4: AERA, FC-D980C, He, 200 SCCM
Gas 5: AERA, FC-D980C, SF6, 200 SCCM
Gas 6: AERA, FC-D980C, O2, 200 SCCM
Gas 7: AERA, FC-D980C, CF4, 200 SCCM
Gas 8: AERA, FC-D980C, CHF3, 200 SCCM
PM-4:
Gas 1: SAM, SFC480E, O2, 5000 SCCM
Gas 2: AERA, FC-D980C, N2, 1000 SCCM
2001 vintage.
LAM RESEARCH Alliance A6 9400 DFM etcher/asherは、金属、ガラス、誘電体、フォトレジストなどの材料の薄膜パターンを適用するための高度なエッチングプロセスツールです。これにより、幅広い特定のプロセスにわたるあらゆる材料または基板のパターン化された成膜およびエッチングが可能になります。LAM RESEARCH ALLIANCE A6 9400DFMは、電子ビームリソグラフィ、リアクティブイオンエッチング（RIE）、目視検査、真空サーマルクラスター（VTC）処理、および炎処理技術を製品のエッチングおよび成膜プロセスに使用します。このツールは、電子ビームをパターン化する材料に集中させることによって機能します。これにより、材料は多くの非常に小さな領域で溶け、結果として液滴のパターンになります。この後、液滴を材料の上に広げ、ナノメートルサイズの特徴のパターンを作成する化学エッチングプロセスが発生します。パターンを作成した後、リアクティブイオンエッチング（RIE）プロセスを使用してパターンをさらに洗練し、洗浄します。これには、電界を用いて基材に反応イオンを推進し、局所性の高いスポットを除去し、さらに真空加工、炎処理、目視検査を行うことで清掃する。アライアンスA 6 9400 DFMは、最適なパフォーマンスと制御のために構築された非常に正確なエッチャー/アッシャーです。10ナノメートルまでのパターン生成が可能で、半導体製造、MEMS製造、薄膜蒸着など幅広い業界で使用されています。このツールは、バイアス、マイクロマシニング、高密度、ナノワイヤ成形などの特殊プロセスをサポートすることも可能で、さまざまな複雑なジョブに最適です。ALLIANCE A6 9400DFMには画像補正システムが搭載されており、1ナノメートル程度の小さな特徴の正確な弾道減衰と分解能を実現しています。このツールには、自動レチクルプログラム、真空サーマルクラスター（VTC）処理、in-situ PCベースのアルゴリズム制御など、さまざまな高度な機能も含まれています。LAM RESEARCH Alliance A6 9400 DFMは非常にユーザーフレンドリーで、直感的なプログラミングインターフェイスにより、エッチングプロセスを簡単に操作および変更できます。LAM RESEARCH ALLIANCE A6 9400DFMエッチャー/アッシャーは、さまざまな材料に精密な薄膜パターンを適用するために使用される高度で精密なツールです。その機能と高度な機能により、マイクロエレクトロニクス、半導体、およびMEMS業界のプライベートまたは商用アプリケーションに最適です。Alliance A6 9400 DFM etcher/asherは、直感的なプログラミングインターフェイスと高度な機能により、エッチングプロセスがより効率的かつ正確になります。
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