中古 LAM RESEARCH Alliance A4 #9138509 を販売中

LAM RESEARCH Alliance A4は、エッチングおよび灰プロセス用に特別に設計された高度なエッチャー/アッシャーです。A4はイオン、熱および光学エッチングの独特な組合せと高性能を提供します。これは、優れたプロセス制御と制御可能なプラズマエネルギーを備えた高速で信頼性が高く、繰り返し可能なプロセスを備えています。A4はカスタム設計されたイオン源を持ち、従来のエッチャー/アッシャー設計に比べてプラズマ密度が大幅に高くなります。また、A4は、他のエッチャー/アッシャーモデルよりも高いプロセス圧力を持つ大きなオープンプロセスチャンバーを備えています。これにより、スループットが向上し、エッチングレートが効率的になります。A4には、CDA （Chemical-Dependent-Aberration）技術を使用した特許取得済みの自動プロセスチャンバーが装備されています。この技術は、エッチング機能のエッジ変動を低減し、エッチング欠陥を最小限に抑え、均一なプロファイルを確保するのに役立ちます。A4は最大8つのレシピレイヤーをサポートしており、複数のエッチングプロセスを同時に実行するために使用できます。precisionLoadTMプラズマフォーカス装置は、完全なマクロ制御と診断により、より安定した反復可能なエッチング速度を提供します。また、A4は幅広いプロセスのプリコンディションとプロセスエンドポイントのデタインにも対応しています。さらに、高度なプロセス監視により、現場でのプロセス制御機能が可能になります。A4は、MEMSエッチング、3D異方性エッチング、高度なインターレベル誘電エッチング、セリア等方性エッチング、半導体エッチングなど、幅広い用途に適しています。また、さまざまなプロセスガスをサポートし、ユーザーが最適化されたエッチングレシピを作成することができます。A4は、多種多様な素材に対応したユニバーサルエッチングプラットフォームを提供しており、さまざまな用途で幅広いプロセスレイヤーをエッチングすることができます。安全な動作を確保するために、A4は、ロックされたプラズマチャンバーのドアや低い動作RF圧力などの高度な安全機能を提供します。A4の高度な回路により、システムの信頼性が向上し、オンボード障害検出ユニットは潜在的な問題を迅速に特定して報告し、迅速な是正措置を可能にします。A4は効率的で信頼性が高く、高精度なエッチングマシンで、エッチングやアッシュプロセスの流れに最適です。要求の厳しい半導体デバイスのエッチングプロセスにおいて、スループットとプロセスの再現性が大幅に向上します。