中古 LAM RESEARCH Alliance 9400 DSiE #9082559 を販売中

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ID: 9082559
Etcher Mag7 Robot SST End effectors w/Kalrez VCE6: Manual Lip Seal Elevator Drives 600Mhz PII computer (running 3.2-036 SW) RPM 685-495112-XXX 30amp TCU version 008 chamber body (DFM chamber - not a -010 DSiE chamber body) Edwards STPA 1303C Turbo with SCU-750 controller Standard PTX heated EndPoint Detector Standard PTX upper chamber Halo Lower Generator: 028 RFDS Upper Generator: 026 Mobi 8 stick on board gas box with Unit 125 digital MFC’s Chamber hours: 5000 hrs.
LAM RESEARCH Alliance 9400 DSiEは、先進的な半導体製造に使用されるハイエンドエッチャー/アッシャーです。これは、抵抗材料と誘電材料の両方の精密で高精度なエッチングとアッシングのために設計されています。モジュラーアーキテクチャにより、カスタマイズ可能な操作とプリインストールされたプロセスレシピを可能にし、最適な半導体生産を実現します。9400 DSiEは、25kWの電源を搭載した高温高性能の誘導炉を備えています。この誘導炉は40から1700°Cの温度範囲の精密な温度調整を、提供します。それはまた純粋な真空にポンプでくむことができる蒸化器が付いている低圧か真空操作のために、設計されています。9400 DSiEには、正確な温度測定のための赤外線ピロメーターもあります。9400 DSiEには、デジタル流量計を制御する8つの独立制御ガスバルブがあります。クイックコネクトマニホールドと低圧降下定流分布システムを備えています。9400 DSiEは、リモート圧力モニタ機能も備えており、エッチングおよびアッシング処理を容易に制御できます。9400 DSiEには、プラズマ強化水性エッチング(PEAE)、イオンビーム強化エッチング(IBEE)、原子層成膜(ALD)などの高度なエッチングおよびアッシング技術が搭載されています。また、塩素、アルゴン、アンモニア、フルオロカーボンなどの幅広いプロセスガスもサポートしています。9400 DSiEは、直径200mm〜450mmの幅広いウェーハに対応するように設計されています。アライアンス9400 DSiEは、高度な技術とエンジニアリングと信頼性とユーザーフレンドリーな操作を組み合わせています。半導体製造における高度なエッチングおよびアッシングプロセスに最適です。非常に信頼性が高く、使いやすく、非常に詳細で精密なエッチングとアッシング操作が可能です。
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