中古 LAM RESEARCH Alliance 6 #9145733 を販売中
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ID: 9145733
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2000
Transport module, 8"
Robot:
Position: Transfer
Maker: BROOKS
Model: Mag 7
(2) Blades
System monitor:
(3) Monitors
Load lock:
Load lock type: Auto door
VCE Elevator: Bellows
Mapping sensor
VCE Gate valve
VCE Vacuum isolation valves
TM Vacuum isolation valves
TM Pneumatic valves
Cassette type:
(25) Slot cassettes
TM Lid:
Pneumatic cylinder lift
Up / Down actuate switch
Transport system control:
Transport VME ( MVME 147-011, VME335, DIOXVME-240 )
Multiplexer PCB
Light tower PCB
Chamber:
Position I:
Chamber type: Empty
Position II:
Chamber type: Empty
Position III:
Chamber type: Empty
Position IV:
Chamber type: Empty
Aux Position I:
Chamber type: Aligner
AUX Position II:
Chamber type: Empty
Gas boxes:
PM 1
PM 4
PM 2:
MFC Channel Gas MFC Type MFC Size (SCCM)
AC 01 - CHA C4F8 FC-D980CU 50
AC 02 - CHA O2 FC-D780CU 100
AC 03 - CHA CHF3 FC-D780CU 50
AC 04 - CHA CF4 FC-D780CU 200
AC 05 - CHA O2 (30%) HE FC-D780CU 100
AC 06 - CHA C4F6 FC-D780CU 50
AC 07 - CHA CH2F2 FC-D780CU 100
AC 08 - CHA CF4 FC-D780CU 1000
AC 09 - CHA H2 FC-D780CU 1500
AC 10 - CHA Ar FC-D780CU 1000
AC 11 - CHA N2 FC-D780CU 1000
AC 12 - CHA O2 FC-D780CU 3000
PM 3:
MFC Channel Gas MFC Type MFC Size (SCCM)
AC 01 - CHA C4F8 FC-D780CU 50
AC 02 - CHA O2 FC-D780CU 100
AC 03 - CHA CHF3 FC-D780CU 50
AC 04 - CHA CF4 FC-D980CU 200
AC 05 - CHA O2 (30%) HE FC-D780CU 100
AC 06 - CHA C4F6 FC-D780CU 50
AC 07 - CHA CH2F2 FC-D780CU 100
AC 08 - CHA CF4 FC-D780CU 1000
AC 09 - CHA H2 FC-D780CU 1500
AC 10 - CHA Ar FC-D780CU 1000
AC 11 - CHA N2 FC-D780CU 1000
AC 12 - CHA O2 FC-D780CU 3000
Standard signal tower
Wafer present sensors (WPS)
TM & VCE Pump: Single pump type
2000 vintage.
LAM RESEARCH Alliance 6は、半導体業界の大量生産精密アプリケーション向けに設計されたスタンドアロンエッチャーおよびアッシャーです。研究開発および本番環境向けの効率的で費用対効果の高いプラットフォームを提供します。Alliance 6は、最適な処理効率、高性能、均一性を実現する幅広い機能を提供します。LAM RESEARCH Alliance 6は、スループットを向上させるために最大6つのカセットで動作する自動転送ステーションを備えたマルチチャンバー機器です。均一な垂直および水平プロファイルを提供し、スタンドオフ、誘電体、等方性エッチングアプリケーションのオプションを提供します。システム設計は、エッチスロープ制御と均一性の広い範囲を提供し、エッチプロセス制御パラメータを最適化する機能を備えています。このユニットはまた、粒子の汚染を制御し、プロセス粒子の汚染を防ぐことを目的とした幅広い機能を提供しています。自動化された高真空排気機を採用しており、プロセス環境を常に更新し、プロセス副産物の蓄積を防ぎます。このツールはまた、チャンバー壁から粒子を効率的に除去するオプションのスクラバー真空機能を備えています。アライアンス6は、3インチまたは4インチの300mmウェーハキャリアアセットで動作するように設計されており、ウェーハをロードするための自動フィーダと、それらをアンロードするロボットアームを備えています。平行チャンバ構成と非平行チャンバ構成の組み合わせを使用して、均一性と一貫した厚さを実現します。また、複数チャネルのデュアル極性RF電源を使用して、欠陥率の低い均一なエッチングを保証します。LAM RESEARCH Alliance 6は、テミカルエッチングを最適化するためのプラテン電極とグリッド電極の両方を備えた、構成可能なカソード配置を備えています。このモデルは、正確なエッチバック動作を保証するために、ウェーハマッピングを含む高度な診断を採用しています。また、高温制御、高速カソード回転、および精密な化学制御のための化学供給装置を備えています。Alliance 6では、高度なソフトウェアを使用してプロセスのパラメータを実行全体にわたって制御し、チャンバー性能の継続的なフィードバックを提供します。これにより、プロセスパラメータと均一なプロファイル結果を継続的に最適化できます。このシステムは、インターネットやイントラネットを介した遠隔監視やデータ管理、レシピやパフォーマンスデータをPCやネットワークデータベースに転送する機能も備えています。
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