中古 LAM RESEARCH Alliance 6.0 TCP 9400 PTX #9024652 を販売中
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ID: 9024652
Dry etcher, 8"
CASS NEST PLASTIC 8"
Wafer Shape SNNF (Semi Notch No Flat)
SMIF Interface NO
System Information:
Platform type ALLIANCE 6.0
Process chamber qty 3
Software version A2.2-018
SECS/ GEM yes
Chamber Location / Type / Current process:
Position 1 (PM1) TCP9400PTX / Poly etch
Position 2 (PM2) TCP9400PTX / Poly etch
Position 3 (PM3) TCP9400PTX / Poly etch
Position 4 (PM4) none
Etch Chamber:
Chamber type TCP9400PTX
Turbo pump EDWARDS STP-A1303CV80
Turbo N2 fixed or MFC Type Fixed
Helium UPC UPC-8130
Endpoint detector none
Pendulum valve model VAT 65046-PH52-ADE
Chamber Manometer MKS E29B-23813
Turbo Manometer MKS 625A-14375
Foreline Manometer MKS 625A-14059
Helium Manometer yes
Top RF generator model AE / 3155059-026
Bottom RF generator model AE / 3155059-028 (RFG1250 HALO)
TCP Match yes
Bias Match yes
TOP RF Sense Box yes
Bias RF Sense Box yes
Auto Tune Board yes
DIP Board yes
VCI Connected No
Gas configuration and setup:
Chamber volume used for gas cal 36200 ml
Gas Box:
type Extended capability gas box – Phase II
gas box qty 3 (stacking)
manual valve yes on each line
pressure gauge yes on each line
regulator yes on each line
filter yes on final line
Gas Panel Pallet:
gas line qty with N2 purge line 8
gas line qty without N2 purge line 0
MFC type UFC-1661 / UFC-1660 / UFC-8160
Gas line (gas name, MFC size)
PM1
line 1 O2 100 / UFC-1660
line 2 NF3 100 / UFC-1661
line 3 He 200 / UFC-1660
line 4 CF4 200 / UFC-1660
line 5 SO2 100 / UFC-1660
line 6 SF6 200 / UFC-1660
line 7 Ar 200 / UFC-1660
line 8 none
PM2
line 1 O2 100 / UFC-1660
line 2 NF3 100 / UFC-1661
line 3 He 200 / UFC-1660
line 4 CF4 200 / UFC-1660
line 5 SO2 100 / UFC-1660
line 6 SF6 200 / UFC-1660
line 7 Ar 200 / UFC-1660
line 8 none
PM3
line 1 O2 100 / UFC-1661
line 2 NF3 100 / UFC-1661
line 3 He 200 / UFC-1661
line 4 CF4 200 / UFC-1660
line 5 SO2 100 / UFC-1660
line 6 SF6 200 / UFC-1660
line 7 Ar 200 / UFC-1660
line 8 none
Mainframe:
Loadlock Dual VCE Loader / Manual Door open
Robot type BROOKS MagnaTrain 7 (with Dual aluminum blade)
EMO button front, side
Signal tower (front) green, yellow, red
Remotes:
RPM
Qty 1
EMO button yes
Line frequency and voltage 208VAC 3ph
Remote UPS interface yes (105V 1ph)
UPS yes
System monitor display 1 (front)
Heat Exchanger Type:
For Cathode NOAH PRECISION, LLC / Model 3300 (-20 ~ +90degC)
qty 3
Pumps Type:
Transfer Module EBARA A70W (not included in scope, needed to confirm)
PM1 EBARA A30W (not included in scope, needed to confirm)
PM2 EBARA A30W (not included in scope, needed to confirm)
PM3 EBARA A30W (not included in scope, needed to confirm)
Gas Scrubber:
qty 1
Type EBARA GTE-3-0WVT (not included in scope, needed to confirm)
1998 vintage.
LAM RESEARCH Alliance 6。0 TCP 9400 PTXは、最も要求の厳しい産業処理要件を満たすように設計された強力なエッチャー/アッシャーです。PTXは、優れた性能と効率を提供するために設計された高度な技術を備えています。この装置は、費用対効果が高く効率的な生産を可能にするさまざまな機能を備えています。プロセスチャンバー、ガス源、熱源、ガスボックス、プロセスシーケンサー、基板サイズ検出器、DCバイアス電源、RF電源で構成されています。このコンポーネントの組み合わせは、効率的で生産的な異方性エッチングとアッシングシステムを提供します。プロセス部屋は均一で、反復可能な処理の質のための特別な特徴と設計されています。RF電源は、精密なエッチングとアッシングのための正確で制御された電力を提供します。温度およびガス制御ユニットは、プロセス化学のすべてのファセットが再現可能なプロセス結果を保証するために正確に監視および制御されることを保証します。このガス源は、Cl2、 SF6、 O2、 Arなどの様々なプロセスガスの供給を含む幅広い機能のために設計されています。熱源は機械に統合され、反復可能な異方性エッチングおよびアッシングプロセスのための費用効果が大きい解決を提供します。統合されたガスボックスは、精密なエッチングとアッシングのためのプロセスガスの混合を制御します。プロセスシーケンサーは、プロセス制御を提供し、ツールが自動的にさまざまなプロセス条件に調整することができます。基板サイズ検出機能により、エッチングおよびアッシングプロセスの精度と再現性が保証されます。DCバイアス電源は、基板材料およびプロセス条件に基づいてエッチングおよびアッシング速度を向上させることができます。全体として、LAM RESEARCH Alliance 6。0 TCP 9400 PTXは強力で信頼性の高いエッチャー/アッシャーであり、産業用加工設備の要求に応えるように設計されています。洗練されたデザインと先進技術を備え、反復可能な結果と優れたパフォーマンスを保証します。
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