中古 LAM RESEARCH Alliance 4.1 #293587281 を販売中

LAM RESEARCH Alliance 4.1
ID: 293587281
ICP Etchers.
LAM RESEARCH Alliance 4。1は、半導体業界に精密エッチング、スパッタリング、物理蒸着サービスを提供できる半導体エッチング/アセープラットフォームです。装置は11インチ×10インチのプラットフォーム上に構築され、2つの4インチPVD(物理蒸着)チャンバーが装備されています。基板のエッチングやクリーニング、保護層の堆積など、幅広いプロセスを可能にします。また、MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems)の単層および多層蒸着、超薄膜蒸着、エッチングも提供しています。アライアンス4。1は、最大4インチのウエハサイズに対応可能で、シリコン、シリカ、フォトレジストなどのさまざまな材料を処理できます。さらに、内蔵の制御システムにより、タイミングやプロセスパラメータなどのエッチング処理を完全に制御できるため、再現性の高い結果が得られます。アライアンス4。1は、ワークフローを最適化し、すべてのコンポーネントに簡単にアクセスできるように人間工学に基づいて設計されています。さらに、ウェーハのバリエーションやオンウェーハ温度分布のマッピングを可能にする高解像度マッピング機能を搭載しています。このユニットはまた、積層アプリケーション用の埋め込みフィルムやマルチメタルフィルムの堆積などの余分なプロセス能力を可能にします。アライアンス4。1は、プロセス監視とリアルタイム診断を提供することができ、エンジニアはエッチングプロセスのステータスを決定することができます。さらに、プログラミングを容易にするための標準レシピのライブラリを提供し、業界標準のソフトウェアプラットフォームと互換性があります。さらに、安全で信頼性の高い操作を提供するために、安全ツールを内蔵しています。全体として、LAM RESEARCH Alliance 4。1は半導体業界に先進的で信頼性の高いエッチングプラットフォームを提供しています。プロセス監視、高解像度マッピング、業界標準のソフトウェアプラットフォームとの互換性など、さまざまな便利な機能を備えているため、精密エッチングや成膜が必要なアプリケーションに最適です。
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