中古 LAM RESEARCH A6 9600 PTX #201020 を販売中
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販売された
ID: 201020
Etcher
Process: metal
SMIF type: API
Chamber type: PTX
Chambers: (2) PM, (2) Strip
Automation online component: SECS I/II, SECSGEM
Chamber config
Process module 1:
Focus ring: 716-460216-002
Quartz plate: 716-000941-001
Process module 2:
Esc: 718-094523-281
Liner, chamber, vat 65, Trnsn manf: 839-495013-002
Liner, chamber, trnsn manf, adptr: 715-495014-001
Liner, chamber, trnsn manf: 714-495015-001
Liner, chamber, al, alli, bsr, 9600XX: 715-330825-007
Top quartz: 716-330891-002
Insul, esc, 9600XX: 716-330915-001
Pl, sh hd, cer, 21 hole, 9600PTX: 716-330892-007
Ring, gnd, chamber, bsr, ac cpld: 715-330889-002
Edge ring: 716-330045-281
Uniformity ring: 716-331051-002
Process module 3:
Esc: 718-094523-281
Liner, chamber, vat 65, Trnsn manf: 839-495013-002
Liner, chamber, trnsn manf, adptr: 715-495014-001
Liner, chamber, trnsn manf: 714-495015-001
Liner ,chamber, al, alli, bsr, 9600XX: 715-330825-007
Top quartz: 716-330891-002
Insul, esc, 9600XX: 716-330915-001
Pl, sh hd, cer, 21 hole, 9600PTX: 716-330892-007
Ring, gnd, chamber, bsr, ac cpld: 715-330889-002
Edge ring: 716-330045-281
Uniformity ring: 716-331051-002
Process module 4:
Focus ring: 716-460216-002
Quartz plate: 716-000941-001
EPD
Channel: end point filter box for PM 1 and PM 2
Channel (nm): 853-540066-011 703/261nm, 853-540066-011 703/261nm
Gas and B/H module (PM 1, 2, 3, 4 respectively)
Gas line qty (analog): 3, 8, 8, 3
Gas box model (analog): all universal
Gas 1: O2 5000, BCl3 200, BCl3 200, O2 5000
Gas 2: N2 1000, O2 1000, O2 1000, N2 1000
Gas 3: H2O 1000, Cl2 400, Cl2 400, H2O 1000
Gas 4: n/a, N2 200, N2 200, n/a
Gas 5: n/a, CF4 100, CF4 100, n/a
Gas 6: n/a, Ar 200, Ar 200, n/a
Gas 7: n/a, N2 20, N2 20, n/a
Gas 8: n/a, CHF3 50, CHF3 50, n/a
Helium pressure control unit: n/a, UPC-1300, UPC-1300, n/a
VAC (PM 1, 2, 3, 4 respectively)
Turbo pump: n/a, ATH-1600, ATH-1600, n/a
Turbo pump controller: n/a, ACT1300M/1600M, ACT1300M/1600M, n/a
Dry pump (TM and VCE): all single pump
Chamber manometer: MKS 10Torr, MKS 0.1Torr, MKS 0.1Torr, MKS 10Torr
Turbo manometer: n/a, MKS 10Torr 625A, MKS 10Torr 625A, n/a
Foreline manometer: all MKS 10Torr 625A
Pressure control valve: VAT64, Pendulum VAT65, Pendulum VAT65, VAT64
VAT controller: all software 65PM.3E.20
Temperature control (PM 1, 2, 3, 4 respectively)
Temperature control system: all 16 channel
Chiller type: 1 CH TCU, n/a, n/a, 1 CH TCU
RF generator: UPPER:RFDS1250/LOW:RFDS1250-HALO, n/a, n/a, UPPER:RFDS1250/LOW:RFDS1250-HALO
Match: (L-853-330951-021)/(U-853-032294-002), Stripper SmatchMatch, Stripper SmatchMatch, (L-853-330951-021)/(U-853-032294-002)
TR system
Platform: A6
Light tower: standard 4 light
Robot type: Brooks Mag-7
Arm type: dual arm
Wafer handling interface: Kalrze end effector
TM cover lift arm with PRK function
VCE inspection: lip seal
Computer system:
PC
Software version 2.2
Remote UI
Standard power
1996 vintage.
LAM RESEARCH A6 9600 PTXは、半導体ICやトランジスタなどのマイクロエレクトロニクスデバイスの製造においてエッチングおよびアッシング処理に使用されるエッチャー/アッシャー装置です。このシステムは、エッチングおよび灰プロセス中に優れた均一性とデバイス層への損傷を最小限に抑え、高分解能の結果を生成するように設計されています。ユニットは、効率的なエッチング/アッシングプロセスをユーザーに提供するために一緒に動作するコンポーネントの数で構成されています。機械の主なコンポーネントは、プラズマソースアセンブリ、外部プロセスチャンバー、真空ポンプ、およびその関連制御エレクトロニクスです。これらのコンポーネントは、化学的に反応する環境を作り出すために協力しており、ユーザーはエッチングとアッシングプロセスを成功させるために必要な反応と条件を制御することができます。プラズマソースアセンブリは、プロセスチャンバー内に含まれる材料と反応する高密度プラズマビームを生成するように設計されています。プロセスチャンバーは、サンプル材料を収容するように設計されており、反応性ガス混合物で満たされています。真空ポンプは、エッチングと灰プロセスによって生成される副産物を排出するだけでなく、プロセス室を避難させるために使用されます。このツールは、周波数シンセサイザー、振幅変調器、およびイベント制御インターフェイスを含む制御エレクトロニクスによって制御されます。周波数シンセサイザーは、プロセス中の最適なスループットと均一性のためにプラズマパラメータを正確に調整する能力をユーザーに提供する責任があります。振幅変調器は、所望のプラズマビーム密度とプロファイルに起因するRF入力電力を調整するために使用されます。イベントコントロールインターフェイスにより、ユーザーはエッチングや灰などのマルチステージプロセスを設定できます。A6 9600 PTXは、3インチから12インチ未満のウェーハまでの生産サイズに対応できます。この資産は、金属、ポリマー、誘電体などのさまざまな材料をエッチングすることができます。また、異方性エッチングも可能です。この装置の均一性と再現性は、集積回路やトランジスタの製造に適しています。
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