中古 LAM RESEARCH A4 9400 #9127504 を販売中

LAM RESEARCH A4 9400は、形成およびパターニングアプリケーションを介して複雑なための汎用性と費用対効果の高いソリューションをユーザーに提供するように設計された高度なエッチャー/アッシャーです。統合されたRFジェネレータ、高圧プロセスチャンバー、およびエッチングとアッシングのレシピタイプを簡単に切り替える機能などの高度な機能を備えたA4 9400は、汎用性の高いイオン処理ニーズに対応する信頼性の高い中負荷エッチャー/アッシャーを必要とする半導体メーカーや研究室に最適です。LAM RESEARCH A4 9400の革新的な設計には、1×10-4トーラーよりも優れた基圧を備えた高圧プロセスチャンバーが含まれており、ユーザーはあらゆるエッチングおよび成膜バリエーションに最適なプロセス性能を実現できます。この高度なチャンバーはまた、eSFOC高圧ポンプ技術を使用して1x10-6トーラーのピーク実用的な背景圧力を可能にします。A4 9400に統合された効率的なRFジェネレータは、500wまでの大量の電力を提供し、ユーザーはより高いRFプラズマ密度を生成することができます。このRF力はユーザーがより低い材料の損失および充満中和の効率のより厚いフィルムを作り出すことを可能にし、より高いプロセス歩留まりおよびより堅いパターン公差をもたらします。LAM RESEARCH A4 9400はまた、クリーンな動作を保証するためにアクティブにすることができるパージシステム、近くの人員や機器を保護するように設計されたRFガードシステムなど、多くの安全機能を提供しています。さらに、A4 9400は、人間工学に基づいて設計された産業用ワークユニットを備えており、ユーザーはワークピースをエッチングまたはアッシャーしながら、快適かつ効率的に配置することができます。優れた性能に加えて、LAM RESEARCH A4 9400は簡単なレシピスイッチングと高速処理を提供します。それはわずか2秒でエッチングからアッシングのレシピに切り替えることができ、ユーザーは特定のプロセスニーズに合わせてレシピの処方をすばやく変更することができます。また、A4 9400は、1時間あたり最大4,500ウェハのプロセス速度を実現し、迅速かつ効率的な実行を可能にします。LAM RESEARCH A4 9400は、半導体製造および研究産業の要求に応える信頼性と汎用性の高い中型負荷エッチャーおよびアッシャーです。高度なエッチングとアッシング機能、強力なRFジェネレータ、高圧プロセスチャンバー、簡単なレシピスイッチング、高速処理を備えたA4 9400は、イオン処理アプリケーション要件に最適なソリューションです。