中古 LAM RESEARCH 9400 DFM #9181359 を販売中

LAM RESEARCH 9400 DFMは、多数のアプリケーションで比類のない性能を提供する高度なプラズマエッチャー/アッシャーです。高精度な時間および空間制御イオンエッチプロセスを使用して、幅広いエッチング作業で優れた結果を達成し、2。5ナノメートル以下の機能をエッチングすることができます。9400 DFMは、ウエハ、フィルター、フィルムなどの精密エッチングに使用でき、高い精度と精度を備えています。LAM RESEARCH 9400 DFMには2つのExacting Ion Source （EIS）チャンバーが装備されており、真空と大気の両方の処理が可能です。また、優れたCVD （Chemical Vapor Deposition）とエッチング性能を可能にするデュアルモードCF （Carbon Fiber）技術を使用しています。これは、より高いプラズマ密度と炭素繊維からのユニークな原子の寄与の組み合わせによって可能になります。この装置は、さまざまな材料をエッチングすることができ、幅広い用途に使用することができます。誘電性エッチング、ハードマスクエッチング、コンタクトエッチング、エッチング、ダマスケンエッチングなどがあります。エッチング結果は非常に反復可能で、ベベルおよびフォトレジストのエッチングに優れたエッジと酸化物の粗さを提供します。このシステムはまた、最高レベルのチャンバー再現性を確保するために、多くの高度な制御技術を備えています。それは機械にイオンエネルギーおよびスパッタリングの優秀な制御を与える高度RFのバイアスの制御装置を使用します。また、9400 DFMの動作を自動化し、オペレータのエラーを低減し、稼働時間と生産性を向上させる、Chamber Management Assetと呼ばれる高度な自動化ツールも含まれています。LAM RESEARCH 9400 DFMは、高精度な機能を生成するための高度なエッチャー/アッシャーであり、幅広い用途で使用できます。このモデルは、反復可能なエッチング結果を保証するための高度な制御技術を多数備えており、デュアルモードCF技術は優れたCVDおよびエッチング性能を提供します。エッチング性能の業界リーダーとなり、半導体業界の多くの企業にとって選択肢の一つとなっています。