中古 LAM RESEARCH 715-440264-003 #293661555 を販売中

LAM RESEARCH 715-440264-003は、基板上の誘電体、金属、その他の材料のエッチングまたはアッシングに使用される半導体デバイスの一種であるエッチャー/アッシャーです。ドライエッチング、レジストアッシング、ウェットストリッピング、プラズマエッチングなどのマルチモード動作を必要とする化学プロセス用に設計されたオープンチューブエッチャー/アッシャーです。このアッシャー/エッチャーは、独自のRFソースとLAM特許取得済みの調整可能なフローパターン調整技術で構成されるプラズマソースを備えています。この技術は、エッチングプロセスの正確な調整と正確な制御を可能にし、幅広いプロセス制御オプションを提供します。この柔軟性は、望ましいエッチング結果を達成するために不可欠です。715-440264-003の真空装置は、プロセスガス汚染物質の広い範囲で優れたエッチング速度制御を提供するように設計されています。真空システムは、微粒子やエッチングの副生成物を最小限に抑えるのに役立ち、正確な制御と洗浄基板を可能にします。さらに、クリーンブランドのモデルは、最高のエッチング結果を生成するために、より高いプラズマ源の温度を使用するオプションを提供します。LAM RESEARCH 715-440264-003は、精密な温度制御のための高度なサーマルユニットも提供しています。カスタム内蔵の高温オーブンにより、基板全体の温度均一性を確保し、正確な制御を実現します。VTOSH （Variable Temperature Substrate Holder）は、基板のあらゆる部分の温度を正確に変更する機能を提供し、特殊なプロセスに対して柔軟性とより細かい温度制御を提供します。715-440264-003には、制御されたガス導入用のRFマルチポールガスインジェクタや、チャンバーの環境を監視するための不活性ガスセンサーなど、交換可能なガス機器のいくつかのオプションがあります。オプションのマルチポートエキゾーストマシンにより、プロセスガスや副産物の排気を制御し、最適なコンタミネーション制御を実現します。このアッシャー/エッチャーには、自動化されたセットアップと修正のための指示プロセス表示を装備することもでき、オペレータはエッチング処理を監視して精度を向上させることができます。その高度なオペレータインターフェイスと包括的なドキュメントにより、基本的および高度なオペレータに適したエッチャー/アッシャーとなります。LAM RESEARCH 715-440264-003は、精密なエッチング結果を提供するために設計された幅広い機能を備えた高度なアッシャー/エッチャーです。Variable Temperature Substrate Holder、マルチポート排気ツール、プロセスディスプレイにより、特殊なプロセスのプロセス制御と調整を改善できます。その高度な熱資産とRF源は、正確な温度制御とより高いプラズマ源温度を可能にします。その様々な交換可能なガス機器、715-440264-003は、基本的な高度なユーザーのための適切なアッシャー/エッチャーです。