中古 LAM RESEARCH 590 #9226292 を販売中

LAM RESEARCH 590は、シリコンウェーハパターニング用に設計されたエッチャー/アッシャー装置で、エッチングおよびアッシング機能を必要とするアプリケーションを選択します。バッチ処理の精度と再現性を、単一のウェーハ処理の柔軟性で実現します。これは、チャンバー全体にわたって均一なガスの流れ、チャンバーの容積、および低温を備えているため、堆積率の精度が向上し、製品の歩留まりが向上します。このユニットはまた、プロセスあたりのガス消費を最小限に抑えることができる高度なガス供給機を提供しています。このツールはまた、高速で信頼性の高いプロセスのための完全なプログラム可能性を備えた高性能RFジェネレータを提供します。その強化されたソース/ドレインハードマスクエッチチャンバーは、シングルウェーハエッチングに最適化されており、ICP低圧とともに超高レートエッチングを提供します。エッチングチャンバーを排出するソースにより、さまざまな要件を満たすために幅広いプロセス温度と電力レベルを提供します。さらに、590は追加のチャンバーとスパッタクリーニング、プラズマエッチング、サブサーフェスエッチングなどのさまざまなエッチングプロセス機能で構成できます。このモデルはあなたの必要性に従ってプロセスをカスタマイズする柔軟性を与えます。さらに、LAM RESEARCH 590は、所有コストを削減し、運用コストを削減してプロセスを大幅にスムーズにするのに役立ちます。高度な制御オプションと直感的なGUIインターフェースにより、ユーザーはパターニングとエッチングのニーズに完全なソリューションを提供します。全体として、590は、究極の精度とプロセス制御を提供する業界をリードするエッチングおよびアッシュ機器です。